[發(fā)明專利]圖像處理裝置和圖像處理方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210586160.X
• 申請日: 2012-12-28
• 公開（公告）號: CN103200401A
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金鐘大;佐藤數(shù)史
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號: H04N7/26
• 分類號: H04N7/26;H04N7/50
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 朱勝;李春暉

1.一種圖像處理裝置，其包括：

控制單元，其被配置成在幀內(nèi)預(yù)測的執(zhí)行中，確定位于預(yù)測目標(biāo)塊上方或左側(cè)的相鄰塊的兩條或更多條參考線是否可用；和

預(yù)測單元，其被配置成當(dāng)所述控制單元確定兩條或更多條參考線可用時，使用所述兩條或更多條參考線中的參考像素來生成用于所述預(yù)測目標(biāo)塊的預(yù)測圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理裝置，其中所述控制單元確定對于與所述預(yù)測目標(biāo)塊屬于相同最大編碼單位的相鄰塊，所述相鄰塊的兩條或更多條參考線可用。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理裝置，其中當(dāng)在角度預(yù)測模式中所述控制單元確定兩條或更多條參考線可用時，所述預(yù)測單元使用在對應(yīng)于指定角度的位置的所述兩條或更多條參考線中的參考像素來生成用于所述預(yù)測目標(biāo)塊的預(yù)測圖像。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖像處理裝置，其中所述預(yù)測單元通過對在對應(yīng)于所述角度的位置的第一參考線中的第一參考像素和在對應(yīng)于所述角度的位置的第二參考線中的第二參考像素加權(quán)和相加在一起，來生成用于所述預(yù)測目標(biāo)塊的所述預(yù)測圖像。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖像處理裝置，其中當(dāng)所述角度更接近于垂直或水平時，所述預(yù)測單元使用在對應(yīng)于所述角度的位置的所述兩條或更多條參考線中的參考像素來生成用于所述預(yù)測目標(biāo)塊的預(yù)測圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理裝置，其中當(dāng)在平均值預(yù)測模式中所述控制單元確定兩條或更多條參考線可用時，所述預(yù)測單元通過將所述兩條或更多條參考線中的參考像素包括到平均值的計算中來生成用于所述預(yù)測目標(biāo)塊的預(yù)測圖像。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理裝置，其中當(dāng)在平面預(yù)測模式中所述控制單元確定兩條或更多條參考線可用并且第一參考線中預(yù)定位置的參考像素不可用時，所述預(yù)測單元使用第二參考線中的參考像素代替所述預(yù)定位置的所述參考像素來生成用于所述預(yù)測目標(biāo)塊的預(yù)測圖像。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理裝置，其中所述控制單元確定對于與所述預(yù)測目標(biāo)塊屬于不同幀或不同切片的相鄰塊，所述相鄰塊的參考線不可用。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的圖像處理裝置，其中當(dāng)位于所述預(yù)測目標(biāo)塊左側(cè)的相鄰塊與所述預(yù)測目標(biāo)塊屬于相同切片時，所述控制單元確定位于所述預(yù)測目標(biāo)塊左側(cè)的所述相鄰塊的兩條或更多條參考線可用。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理裝置，還包括：

參數(shù)獲取單元，其被配置成獲取有效化參數(shù)，所述有效化參數(shù)指示參考兩條或更多條參考線的模式是否有效，

其中，當(dāng)所述有效化參數(shù)指示參考兩條或更多條參考線的所述模式有效時，所述控制單元確定兩條或更多條參考線是否可用。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理裝置，還包括：

參數(shù)獲取單元，其被配置成獲取指示參數(shù)，所述指示參數(shù)對于具有兩條或更多條可用參考線的每個預(yù)測目標(biāo)塊，指示是否要使用所述兩條或更多條參考線中的第一和第二參考線中的參考像素，

其中，所述預(yù)測單元對于所述指示參數(shù)指示要使用所述第一和第二參考線中的參考像素的預(yù)測目標(biāo)塊，使用所述第一和第二參考線中的所述參考像素來生成所述預(yù)測圖像。

12.一種圖像處理方法，其包括：

在幀內(nèi)預(yù)測的執(zhí)行中確定位于預(yù)測目標(biāo)塊上方或左側(cè)的相鄰塊的兩條或更多條參考線是否可用；和

當(dāng)確定兩條或更多條參考線可用時，使用所述兩條或更多條參考線中的參考像素來生成用于所述預(yù)測目標(biāo)塊的預(yù)測圖像。