[發明專利]微波加熱處理裝置和處理方法

有效

• 申請號: 201210584999.X
• 申請日: 2012-12-28
• 公開（公告）號: CN103188835A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 池田太郎;河西繁;山下潤;伴昌和
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H05B6/64
• 分類號: H05B6/64;H05B6/80;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種微波加熱處理裝置，其特征在于，具備：

在內部具有微波放射空間并且收容被處理體的處理容器；和

生成用于對所述被處理體進行加熱處理的微波并將該微波導入所述處理容器的微波導入裝置，

所述處理容器具有上壁、底壁和相互連接的四個側壁，

所述微波導入裝置具有第一微波源至第四微波源作為多個所述微波源，

所述上壁具有將在所述第一微波源至第四微波源的各個中生成的所述微波導入所述處理容器的第一微波導入口至第四微波導入口，

所述第一微波導入口至第四微波導入口在俯視時分別呈具有長邊和短邊的矩形，其長邊和短邊設置為與所述四個側壁的內壁面平行，

各微波導入口配置于相互變更90°角度的旋轉位置，且配置為在沿與所述長邊垂直的方向平行移動的情況下，不與具有平行的長邊的其它微波導入口重疊。

2.如權利要求1所述的微波加熱處理裝置，其特征在于：

所述微波導入口的長邊的長度L₁和短邊的長度L₂的比（L₁/L₂）為4以上。

3.如權利要求1或2所述的微波加熱處理裝置，其特征在于：

所述第一微波導入口至第四微波導入口配置為，與相互相鄰的兩個微波導入口的長邊的方向平行的中心軸相互正交，且相互不相鄰的兩個微波導入口的所述中心軸不在同一直線上重疊。

4.如權利要求1或2所述的微波加熱處理裝置，其特征在于：

所述微波放射空間由所述上壁、所述四個側壁、和設置于所述上壁和所述底壁之間的分割部來劃定，

在所述分割部設置有使微波向被處理體的方向反射的傾斜部。

5.如權利要求4所述的微波加熱處理裝置，其特征在于：

所述傾斜部設置為，以所述被處理體的高度為基準位置，具有包含比該基準位置為上方位置和下方位置的斜面，且包圍所述被處理體。

6.如權利要求1或2所述的微波加熱處理裝置，其特征在于：

所述微波導入裝置具備：

導波管，其向所述處理容器傳送微波；和

接合器部件，其安裝在所述處理容器的上壁的外側，包括多個金屬制的塊體，

所述接合器部件在內部具有傳送微波的形成大致S字形的導波通路。

7.如權利要求6所述的微波加熱處理裝置，其特征在于：

通過所述導波通路的一端側與所述導波管連接、另一端側與所述微波導入口連接，所述導波管和所述微波導入口的一部分或全部在不相互上下重疊的位置連接。

8.一種處理方法，其是使用微波加熱處理裝置對被處理體進行加熱處理的處理方法，該處理方法的特征在于：

所述微波加熱處理裝置具備：

在內部具有微波放射空間并且收容所述被處理體的處理容器；和

生成用于對所述被處理體進行加熱處理的微波并將該微波導入所述處理容器的微波導入裝置，

所述處理容器具有上壁、底壁和相互連接的四個側壁，

所述微波導入裝置具有第一微波源至第四微波源作為多個所述微波源，

所述上壁具有將在所述第一微波源至第四微波源的各個中生成的所述微波導入所述處理容器的第一微波導入口至第四微波導入口，

所述第一微波導入口至第四微波導入口在俯視時分別呈具有長邊和短邊的矩形，其長邊和短邊設置為與所述四個側壁的內壁面平行，

各微波導入口配置在相互變更90°角度的旋轉位置，且配置為在沿與所述長邊垂直的方向平行移動的情況下，不與具有平行的長邊的其它微波導入口重疊。