[發(fā)明專利]一種糾偏裝置以及應用該糾偏裝置的噴涂裝置

有效

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• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN103008188A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設計）人: 閆向陽
• 申請（專利權）人: 英凱模金屬網有限公司
• 主分類號: B05C13/02
• 分類號: B05C13/02;B05D3/00
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369
• 代理人: 史霞

技術領域

本發(fā)明涉及絲網噴涂設備，尤其涉及一種糾偏裝置以及應用該糾偏裝置的噴涂裝置。

背景技術

為了改善絲網在某些方面的使用性能，可以采用在絲網表面形成一層膜的辦法，例如噴涂方法。噴涂處理的過程為，在絲網表面噴涂一層粉末材料，繼而對絲網進行加熱，使得粉末材料固化在絲網的表面，從而形成一層膜。

現(xiàn)有技術中噴涂設備通常不具有糾偏裝置。但是絲網在行進過程中很容易走偏，導致噴涂不均勻，影響絲網表面成膜的質量。

發(fā)明內容

針對上述技術問題，本發(fā)明提供了一種糾偏裝置，該糾偏裝置糾正絲網走偏，使得絲網在噴涂過程中始終沿設定的路徑行進，保證噴涂的均勻性。

本發(fā)明還提供了一種應用該糾偏裝置的噴涂裝置，保證絲網噴涂的均勻性。

本發(fā)明提供的技術方案為：

一種糾偏裝置，其設置在被傳送物體的傳送路徑上，包括：

支架，其在所述被傳送物體的兩側分別具有沿傳送路徑方向間隔開一定距離的一對鏈條支柱；

兩個環(huán)狀鏈條，分別套設在每對鏈條支柱上；

夾持機構，每一個環(huán)狀鏈條上間隔設置有多個夾持機構，各夾持機構設置在鏈條本體上，被傳送物體經過所述夾持結構，而被夾持在其間；

其中，所述支架包括至少一個能夠沿垂直于所述傳送路徑的方向移動的部分。

優(yōu)選的是，所述的糾偏裝置，還包括：

動力機構，其連接至所述支架，驅動所述支架的至少一個可移動部分移動。

優(yōu)選的是，所述的糾偏裝置中，每一個鏈條支柱上設置于與環(huán)狀鏈條相嚙合的齒輪，且所述鏈條支柱受到旋轉驅動機構的驅動而旋轉，其旋轉的頻率為：致使與齒輪嚙合的環(huán)狀鏈條的運動速度與被傳送物體的傳送速度相對應。

優(yōu)選的是，所述的糾偏裝置中，所述夾持機構包括夾持件和基座，其中，所述夾持件的中間部位樞接在所述基座上，所述基座具有一承載平面，所述夾持件以樞接點為分界，夾持件的下半部分的重量大于其上半部分的重量，在重力的作用下，將被傳送物體夾持在所述承載平面和所述下半部分之間，所述基座設置在鏈條本體上。

優(yōu)選的是，所述的糾偏裝置中，每個鏈條支柱的頂端設置有一個止擋盤，各止擋盤位于各齒輪的上方，各止擋盤的尺寸設計為：與和其處于相同垂直位置的鏈條本體上的夾持機構的夾持件的上半部分相干涉。

優(yōu)選的是，所述的糾偏裝置中，所述止擋盤為圓盤，其直徑大于夾持件的上半部分在圍繞鏈條支柱旋轉運動時形成的圓形運動路徑的直徑，當夾持機構運動至與圓盤相切時，所述夾持件的上半部分受到圓盤外周阻擋而相對于樞接點向外傾斜，由此所述夾持件的下半部分相對于樞接點向內傾斜，而脫離所述承載平面。

優(yōu)選的是，所述的糾偏裝置中，所述夾持件的下半部分還包括設置在其底端的前部的夾持板以及樞接在其底端的后部的滾輪，并且所述基座的承載平面的后部設置有與該滾輪對應的容納凹槽，被傳送物體夾持在所述承載平面和所述夾持板之間。

優(yōu)選的是，所述的糾偏裝置中，所述基座包括位于下方的平板和向上延伸的弧形桿，所述承載平面為所述平板的上表面，所述夾持件樞接至所述弧形桿。

一種應用所述的糾偏裝置的噴涂裝置，其設置于被傳送物體的傳送路徑上，包括：

噴涂機構；

高溫固化機構；

其中，所述高溫固化機構位于被傳送物體的傳送路徑上、所述噴涂機構的下游一側，所述糾偏裝置的支架的任一對鏈條支柱的其中一個鏈條支柱位于噴涂機構的上游一側，另一個鏈條支柱位于高溫固化機構的下游一側。

優(yōu)選的是，所述的噴涂裝置中，所述支架包括三個能夠沿垂直于所述傳送路徑的方向移動的部分，分別位于所述噴涂機構的上游一側、噴涂機構與高溫固化機構之間以及高溫固定機構的下游一側。

本發(fā)明所述的糾偏裝置包括兩個環(huán)狀鏈條，在每一個環(huán)狀鏈條上間隔設置多個夾持機構，各夾持機構設置在鏈條本體上，絲網經過夾持機構，被夾持在其間，支架包括至少一個能夠沿垂直于傳送路徑的方向移動的部分，當發(fā)現(xiàn)絲網走偏時，通過使支架發(fā)生移動，糾正絲網回復到設定的傳送路徑上來。本發(fā)明的噴涂裝置應用糾偏裝置，具有良好的均勻的噴涂效果。

附圖說明

圖1為本發(fā)明所述的糾偏裝置的結構示意圖；

圖2為圖1的B-B剖面視圖；

圖3為圖1的C-C剖面視圖；

圖4為圖1的E-E剖面視圖；

圖5為圖1中A區(qū)域的局部放大圖；

圖6為圖2中M區(qū)域的局部放大圖；