[發明專利]鋁柵CMP化學反應動力學仿真及版圖設計優化方法

有效

• 申請號: 201210581850.6
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN103020384A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 徐勤志;陳嵐
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種鋁柵CMP化學反應動力學的仿真方法，其特征在于，包括步驟：

基于鋁柵CMP化學反應動力學模型，優化鋁柵CMP的研磨液中各組分濃度；

基于所述鋁柵CMP化學反應動力學模型和優化后的所述鋁柵CMP的研磨液中各組分濃度，對鋁柵進行預定時間段的仿真，預測鋁柵表面高度的變化量；

基于預測得到的所述鋁柵表面高度的變化量，獲取鋁柵表面的仿真金屬碟形值和仿真介質侵蝕值；

所述鋁柵CMP化學反應動力學模型為：

MRR(x,y,t)=Mρ0(k6k2+k2k3[Oxi](x,y,t))(k4[CA](x,y,t)+k5)k2k3[Oxi](x,y,t)+(k2+k1[In](x,y,t))(k4[CA](x,y,t)+k5);]]>

其中，MRR(x,y,t)為鋁柵研磨去除率，M為鋁的原子質量，ρ₀為鋁的密度，[Oxi](x，y,t)為研磨液中氧化劑的濃度，[In](x，y,t)為研磨液中抑制劑的濃度，[CA](x，y,t)為研磨液中螯合劑的濃度，k_i(i＝1,...,6)為化學反應速率常數，x為選定坐標系沿x軸方向的坐標值，y為選定坐標系沿y軸方向的坐標值，t為鋁柵CMP的仿真時間。