[發明專利]聚酰亞胺前體組合物、聚酰亞胺成型體和圖像形成裝置

有效

• 申請號: 201210580328.6
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN103289401A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 宮本剛;額田克己
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: C08L79/08
• 分類號: C08L79/08;C08K3/04;C08G73/10;C09D179/08;G03G15/00;G03G15/16
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

1.一種聚酰亞胺前體組合物，所述聚酰亞胺前體組合物包含：

含有由下式(1)表示的重復單元的聚酰亞胺前體；

溶劑；和

pH為5.0以下的酸性炭黑，

其中，R¹表示四價有機基團，R²表示二價有機基團，R³和R⁴各自獨立地表示一價有機基團或氫，并且R³和R⁴不同時為氫。

2.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，R¹是從四羧酸二酸酐除去四個羰基而獲得的殘基，并且

所述四羧酸二酸酐是選自由3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸、2,3,3’,4’-聯苯基四羧酸、均苯四酸和3,3’,4,4’-二苯基醚四羧酸組成的組中的至少一種。

3.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，R¹是從3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸除去四個羰基而獲得的殘基。

4.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，R²是從二胺化合物除去兩個氨基而獲得的殘基，并且

所述二胺化合物是選自由4,4’-二氨基二苯基醚、3,4’-二氨基二苯基醚、對苯二胺和間苯二胺組成的組中的至少一種。

5.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，R²是從二胺化合物除去兩個氨基而獲得的殘基，并且

所述二胺化合物是4,4’-二氨基二苯基醚或對苯二胺。

6.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，由R³表示的一價有機基團是1-烷氧基乙基。

7.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，由R³表示的一價有機基團是選自由以下基團組成的組中的至少一種：1-甲基烷氧基乙基、1-乙基烷氧基乙基、1-丙基烷氧基乙基、1-丁基烷氧基乙基、1-戊基烷氧基乙基和1-環己基烷氧基乙基。

8.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，由R³表示的一價有機基團可以是選自由以下基團組成的組中的至少一種：1-甲基烷氧基乙基、1-乙基烷氧基乙基和1-環己基烷氧基乙基。

9.如權利要求1所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，由R⁴表示的一價有機基團是選自由以下基團組成的組中的至少一種：1-甲基烷氧基乙基、1-乙基烷氧基乙基、1-環己基烷氧基乙基和氫。

10.如權利要求1～9中任一項所述的聚酰亞胺前體組合物，所述聚酰亞胺前體組合物在所述聚酰亞胺前體的末端包含至少一個氨基。

11.如權利要求1～10中任一項所述的聚酰亞胺前體組合物，所述聚酰亞胺前體組合物還包含乙烯基醚化合物。

12.如權利要求11所述的聚酰亞胺前體組合物，

其中，所述乙烯基醚化合物是選自由以下化合物組成的組中的至少一種：具有直鏈或支鏈、飽和或不飽和烴骨架的乙烯基醚化合物、含有脂環族飽和烴骨架的乙烯基醚化合物以及在直鏈或支鏈、飽和或不飽和烴骨架中含有醚鍵的乙烯基醚類。

13.一種聚酰亞胺成型體，所述聚酰亞胺成型體通過對涂布膜進行熱處理而形成，所述涂布膜通過將權利要求1～12中任一項所述的聚酰亞胺前體組合物涂布到被涂布材料上而形成。

14.一種圖像形成裝置，所述圖像形成裝置包括：

圖像保持體；

充電單元，所述充電單元使所述圖像保持體的表面充電；

靜電潛像形成單元，所述靜電潛像形成單元在所述圖像保持體的充電表面上形成靜電潛像；

顯影單元，所述顯影單元通過使用色調劑使所述圖像保持體表面上形成的所述靜電潛像顯影而形成色調劑圖像；

中間轉印體，所述中間轉印體具有權利要求13所述的聚酰亞胺成型體作為環狀帶；

一次轉印單元，所述一次轉印單元將所述圖像保持體表面上形成的所述色調劑圖像轉印至所述中間轉印體上；和

二次轉印設備，所述二次轉印設備將所述中間轉印體上的所述色調劑圖像轉印至記錄介質上。