[發明專利]氣體分析裝置

有效

• 申請號: 201210580054.0
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN103185693B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 大西敏和;辻本敏行
• 申請（專利權）人: 株式會社堀場制作所
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01N21/31
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所31210
• 代理人: 徐曉靜

1.一種氣體分析裝置(1,61,100,200,300)，其特征在于，包括：

包括用于向在配管(50,80,150)內流動的試樣氣體(S)的規定的測定區域投射測定光和/或接收來自所述測定區域的測定光的光路、并貫通配管側壁(51,81,151)地被安裝的管狀構件(11,66,76,117,134)；

對所述測定區域內的試樣氣體(S)投射所述測定光和/或接收來自所述測定區域的測定光的光學系統構件(12,20,63,73,111,131)；

用于向在所述測定光的光路上的、位于所述光學系統構件(12,20,63,73,111,131)和所述測定區域之間的區域提供吹掃氣體(Pa)的吹掃氣體提供部(22,23,68,78,118,101,121,123,137,139)；

在抑制所述試樣氣體(S)向所述管狀構件(11,66,76,117,134)與所述配管側壁(51,81,151)的間隙(56,86,96,155,163,213)流入的位置設置的一個或多個遮蔽板(21,67,77,119,164,214,313)。

2.如權利要求1所述的氣體分析裝置(1,61,100,300)，其特征在于，所述配管側壁(51,81,151)具有，配置在所述管狀構件(11,66,76,117,134)的周圍的、與所述管狀構件(11,66,76,117,134)的外周面之間形成所述間隙(56,86,96,155,163)的筒狀內壁面(53,83,93,153,161)，

所述一個或多個遮蔽板(21,67,77,119,135,164,313)固定于所述管狀構件(11,66,76,117,134)。

3.如權利要求1所述的氣體分析裝置(1,61,200,300)，其特征在于，進一步包括，安裝于所述配管側壁(51,81)的、內周面與所述管狀構件(11,66,76)的外周面之間形成所述間隙(56,86,96,213)的安裝輔助構件(54,84,94,210)，

所述一個或多個遮蔽板(21,67,77,214)固定于所述安裝輔助構件(54,84,94,210)的內周面。

4.如權利要求1～3任一項所述的氣體分析裝置(1,61,300)，其特征在于，所述多個遮蔽板(21,67,77)在所述管狀構件(11,66,76)的軸向隔開間隙地配置。

5.如權利要求1～4任一項所述的氣體分析裝置(1,61,100,300)，其特征在于，

所述吹掃氣體提供部(22,23,68,78,118,101,121,123,137,139)具有吹掃氣體提供管(26,120,136,310)，該吹掃氣體提供管(26,120,136,310)具有中空部，所述中空部包含：用于向所述光學系統構件(12、20)和所述測定區域之間的區域提供吹掃氣體(Pa)的吹掃氣體流路；和所述測定光的光路，所述吹掃氣體提供管(26,120,136,310)與所述管狀構件(11,66,76,115,132)的內壁面隔開第2間隙(28,135,144,311)地配置于所述管狀構件(11,66,76,115,132)的內部。

6.如權利要求5所述的氣體分析裝置(1,61,100,300)，其特征在于，在所述吹掃氣體提供管(26,120,136,310)的中空部流動的吹掃氣體(Pa)為層流。

7.如權利要求5或6所述的氣體分析裝置(1,300)，其特征在于，所述吹掃氣體提供管(26)的頂端配置于所述測定區域的端部附近。

8.如權利要求5～7中的任意一項所述的氣體分析裝置(1)，其特征在于，進一步包括，設于所述吹掃氣體提供管(26)的頂端、從所述測定區域遮蔽所述第2間隙(28)的第2遮蔽板(29)。

9.如權利要求5～8中的任意一項所述的氣體分析裝置(1,100,300)，其特征在于，所述第2間隙(28,135,144,311)構成，用于向所述光學系統構件(12、20)和所述測定區域之間的區域提供吹掃氣體(Pa)的第2吹掃氣體流路(35、36)，

所述氣體分析裝置(1,100,300)進一步包括：為了攪拌通過所述第2吹掃氣體流路(35、36)的吹掃氣體(Pa)而設于所述第2間隙(28,135,144,311)中的攪拌部(36、41)。