[發明專利]一種人臉識別方法及裝置

有效

• 申請號: 201210579476.6
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN103020607B
• 公開（公告）日: 2017-05-03
• 發明（設計）人: 周龍沙;邵詩強
• 申請（專利權）人: TCL集團股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所44237
• 代理人: 張全文

1.一種人臉識別方法，其特征在于，所述方法包括：

從測試圖像中獲取指定的若干特征點的坐標；

將所述若干特征點分為多組；

根據所述若干特征點坐標計算出各組特征點的距離，并通過比較所述各組特征點的距離判定測試圖像中人臉的偏移信息；

將所述測試圖像與預先存儲的偏移信息相同的樣本圖像進行比較，識別所述測試圖像與所述樣本圖像的相似度；

其中，所述將所述若干特征點分為多組包括：將所述若干特征點分為左偏移組，右偏移組，上偏移組及下偏移組；

所述根據所述若干特征點坐標計算出各組特征點的距離，并通過比較所述各組特征點的距離判定測試圖像中人臉的偏移信息包括：

分別計算左偏移組、右偏移組，上偏移組及下偏移組的特征點的距離，獲得左偏距離，右偏距離、上偏距離以及下偏距離；

預設水平閾值及垂直閾值；

當左偏距離與右偏距離的差大于水平閾值，上偏距離與下偏距離的差的絕對值小于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向右偏移；

當右偏距離與左偏距離的差大于水平閾值，上偏距離與下偏距離的差的絕對值小于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向左偏移；

當左偏距離與右偏距離的差的絕對值小于水平閾值，上偏距離與下偏距離的差的絕對值小于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為正角度；

當左偏距離與右偏距離的差的絕對值小于水平閾值，上偏距離與下偏距離的差大于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向下偏移；

當左偏距離與右偏距離的差的絕對值小于水平閾值，下偏距離與上偏距離的差大于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向上偏移；

當左偏距離與右偏距離的差大于水平閾值，上偏距離與下偏距離的差大于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向右向下偏移；

當左偏距離與右偏距離的差大于水平閾值，下偏距離與上偏距離的差大于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向右向上偏移；

當右偏距離與左偏距離的差大于水平閾值，下偏距離與上偏距離的差大于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向左向上偏移；

當右偏距離與左偏距離的差大于水平閾值，上偏距離與下偏距離的差大于垂直閾值時，判定測試圖像中人臉的偏移信息為向左向下偏移。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述從測試圖像中獲取預先指定的若干特征點的坐標之前，所述方法還包括：

建立樣本圖像庫，所述樣本圖像庫中每個用戶的樣本圖像包括多幅人臉偏移信息不同的樣本圖像。

3.如權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述從測試圖像中獲取預先指定的若干特征點的坐標包括：

在測試圖像中標記出指定的多個特征點；

根據所述標記的多個特征點的位置信息建立AAM形狀模型；

通過調整所述AAM形狀模型的形狀參數擬合所述AAM形狀模型獲得人臉輪廓圖像，并從所述人臉輪廓圖像中提取所述指定的多個特征點的坐標。