[發(fā)明專利]同步定位光刻曝光裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210579413.0
• 申請(qǐng)日: 2012-12-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102998913A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳濤;孫立寧;潘明強(qiáng);劉吉柱;王陽(yáng)俊;陳立國(guó);汝長(zhǎng)海;任子武;郭浩;厲茂海;陳國(guó)棟;林銳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州大學(xué)
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

1.一種同步定位光刻曝光裝置，所述裝置包括二維運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、位于所述二維運(yùn)動(dòng)平臺(tái)正上方用于承載待刻蝕對(duì)象的壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊、以及位于所述壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊上方的光源發(fā)生裝置，其特征在于，所述二維運(yùn)動(dòng)平臺(tái)包括控制二維運(yùn)動(dòng)平臺(tái)沿第一方向運(yùn)動(dòng)的第一傳動(dòng)裝置，所述壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊包括控制壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊沿與第一方向相反的第二方向運(yùn)動(dòng)的第二傳動(dòng)裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述第一傳動(dòng)裝置和第二傳動(dòng)裝置的傳動(dòng)速率相等。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述第二傳動(dòng)裝置包括與壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊一端相連的脈沖電壓發(fā)生裝置，當(dāng)壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊上有電壓時(shí)，壓電陶瓷伸長(zhǎng)形成瞬時(shí)運(yùn)動(dòng)，壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊上無(wú)電壓時(shí)，壓電陶瓷復(fù)位。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述裝置還包括檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)待刻蝕對(duì)象是否運(yùn)動(dòng)到待刻蝕位置，若是，則啟動(dòng)第二傳動(dòng)裝置，若否，關(guān)閉第二傳動(dòng)裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同步定位光刻曝光裝置，其特征在于，所述光源發(fā)生裝置包括依次相連的激光源、激光傳輸系統(tǒng)及激光頭。

6.一種如權(quán)利要求1所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

S1、將待刻蝕對(duì)象固定于壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊上，開(kāi)啟光源發(fā)生裝置；

S2、使二維運(yùn)動(dòng)平臺(tái)帶動(dòng)壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊沿第一方向運(yùn)動(dòng)；

S3、檢測(cè)待刻蝕對(duì)象是否運(yùn)動(dòng)到待刻蝕位置，若是，控制壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊沿與第一方向相反的第二方向運(yùn)動(dòng)并進(jìn)行刻蝕，若否，返回執(zhí)行步驟S2。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述步驟S3中壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊的運(yùn)動(dòng)速度與步驟S2中二維運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)速度大小相等方向相反。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述步驟S3還包括：

將壓電陶瓷運(yùn)動(dòng)模塊復(fù)位到初始位置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的同步定位光刻曝光方法，其特征在于，所述步驟S3后還包括：

重復(fù)執(zhí)行步驟S2~S3，直至待刻蝕對(duì)象全部刻蝕完成。