[發(fā)明專利]模擬真空滅弧室裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210578001.5 | 申請日： | 2012-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN103048617A | 公開（公告）日： | 2013-04-17 |
| 發(fā)明（設計）人： | 胡啟 | 申請（專利權(quán)）人： | 戴頓（重慶）高壓開關有限公司 |
| 主分類號： | G01R31/327 | 分類號： | G01R31/327;G01R1/02 |
| 代理公司： | 北京同恒源知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11275 | 代理人： | 趙榮之 |
| 地址： | 400707 重*** | 國省代碼： | 重慶;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 模擬 真空 滅弧室 裝置 | ||
1.?模擬真空滅弧室裝置，其特征在于：所述裝置包括有上底板、下底板、絕緣拉桿、觸頭彈簧、下觸頭和上觸頭，上底板和下底板通過立柱固定在一起，絕緣拉桿位于上底板和下底板之間，絕緣拉桿的底端穿過下底板與機構(gòu)箱的動力輸出端固定一起，觸頭彈簧的一端固定在絕緣拉桿上，觸頭彈簧的另一端與下觸頭底端面固接，下觸頭的上端面與上觸頭的下端面固接，上觸頭的上端面與一端安裝在上底板的自閉力彈簧固接。
2.?如權(quán)利要求1所述的模擬真空滅弧室裝置，其特征在于：所述絕緣拉桿為U形，觸頭彈簧一端固定伸入絕緣拉桿U形開口內(nèi)，并固定在絕緣拉桿內(nèi)的底端面上。
3.?如權(quán)利要求2所述的模擬真空滅弧室裝置，其特征在于：所述下觸頭上設置有與絕緣拉桿U形開口相對應的防水板。
4.?如權(quán)利要求1所述的模擬真空滅弧室裝置，其特征在于：在上底板上設置有倒U形的防水帽，防水帽的帽沿通過螺栓固定在上底板的上表面，自閉力彈簧位于防水帽內(nèi)，并且自閉力彈簧的一端固定在防水帽內(nèi)壁頂端，自閉力彈簧的另一端與穿過上底板的上觸頭上端面固接。
5.?如權(quán)利要求4所述的模擬真空滅弧室裝置，其特征在于：所述上觸頭上設置有限位板，限位板位于上底板下方。
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