[發(fā)明專利]一種無(wú)機(jī)/有機(jī)多層復(fù)合隔膜的制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210577771.8 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103066228A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐睿杰;雷彩紅;莫康信;胡冰;石文強(qiáng);蔡啟;張海燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01M2/16 | 分類號(hào): | H01M2/16;C23C14/20;C23C14/34 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 林麗明 |
| 地址: | 510006 廣東省廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 無(wú)機(jī) 有機(jī) 多層 復(fù)合 隔膜 制備 方法 | ||
1.一種無(wú)機(jī)/有機(jī)多層復(fù)合隔膜的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
1)?將隔膜浸泡在有機(jī)溶劑中,超聲波震蕩15~30min清洗隔膜表面,在烘箱中干燥?,然后將其裁剪為方形隔膜;
2)?將上述方形隔膜及靶材放入射頻濺射設(shè)備中;
3)?調(diào)整射頻濺射設(shè)備的氣壓為0.1~1.0Pa,后充入反應(yīng)氣體,濺射功率為5~80W、濺射時(shí)間為5~100min?;
4)?運(yùn)行設(shè)備,靶材等離子體轟擊氣體分子后形成無(wú)機(jī)物/有機(jī)物沉積在隔膜的兩側(cè),制得無(wú)機(jī)/有機(jī)多層復(fù)合隔膜。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中,?所述的隔膜是聚乙烯隔膜、聚丙烯隔膜、聚丙烯/聚乙烯/聚丙烯多層復(fù)合隔膜、聚丙烯無(wú)紡布中的一種。
3.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟1)中,所述的有機(jī)溶劑是丙酮、無(wú)水乙醇、甲醇、正己烷中的一種或幾種。
4.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟2)中,所述的靶材是金屬靶材、非金屬靶材或它們的混合物靶材;所述金屬靶材是鎳靶、鋁靶、鈷靶、鋯靶或鋅靶;非金屬靶材是硅靶;混合物靶材是硅鋁靶。
5.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟3)中,所述射頻濺射設(shè)備的氣壓為0.7Pa,濺射功率為15w,濺射時(shí)間為30min。
6.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:步驟3)中,所述的反應(yīng)氣體是高純氧氣、氮?dú)庵械囊环N或兩種。
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