[發明專利]一種茶堿分子表面印跡材料的制備方法

有效

• 申請號: 201210577415.6
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN103172804A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 安富強;杜瑞奎;高保嬌;李延斌
• 申請（專利權）人: 中北大學
• 主分類號: C08F292/00
• 分類號: C08F292/00;C08F220/32;C08F8/32;C08J9/26;B01J20/26
• 代理公司: 太原科衛專利事務所(普通合伙) 14100
• 代理人: 朱源

1.一種茶堿分子表面印跡材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）硅膠表面化學改性：將活化過的硅膠與含巰基的硅烷偶聯劑KH-590加入到甲苯中，制得表面化學改性的硅膠微粒MPMS-SiO₂；

（2）表面化學改性的硅膠微粒接枝聚甲基丙烯酸縮水甘油酯：將表面化學改性的硅膠微粒MPMS-SiO₂與單體甲基丙烯酸縮水甘油酯GMA加入到DMF中，氮氣保護，加入BPO，利用MPMS-SiO₂表面的巰基與溶液中的BPO構成氧化還原引發體系，使單體發生表面引發接枝聚合，制得接枝微粒PGMA/SiO₂；

（3）接枝微粒的水楊酸功能化：在1.5g接枝微粒PGMA/SiO₂中加入30mLDMF，浸泡溶脹12小時，再加入溶有3.35g?5-氨基水楊酸的60mL飽和碳酸鈉的水溶液，于80?℃的恒溫條件下反應24h，然后分離出產物微粒，分別用乙醇和蒸餾水洗滌，真空干燥至恒重，即得水楊酸功能化接枝微粒ASA-PGMA/SiO₂；

（4）硅膠微粒表面分子印跡材料的制備：取1g水楊酸功能化接枝微粒ASA-PGMA/SiO₂置于濃度為1.2g/L茶堿的乙醇和水混合溶液，所述乙醇和水的體積比1:1，調節體系pH為8，再加入10mL溶有交聯劑的濃度為8g/L的乙醇溶液，在50℃下攪拌反應24h，用含有NaCl的乙酸水溶液反復洗滌產物微粒，以除去模板分子茶堿，抽濾，真空干燥，即得茶堿分子表面印跡材料MIP-ASA-PGMA/SiO₂。

2.根據權利要求1所述的一種茶堿分子表面印跡材料的制備方法，其特征在于，所述交聯劑為乙二醇二縮水甘油醚EGDE。