[發(fā)明專利]脫硫溶劑再生過(guò)程的胺液跑損綜合防治方法與裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210576451.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103007689A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 范軼;汪華林;李浩;朱學(xué)軍;馬良;張艷紅;吳文鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華暢環(huán)保設(shè)備發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D53/14 | 分類號(hào): | B01D53/14;B01D53/18 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 項(xiàng)丹 |
| 地址: | 201611 上海市松江區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 脫硫 溶劑 再生 過(guò)程 胺液跑損 綜合防治 方法 裝置 | ||
1.一種脫硫溶劑再生過(guò)程的胺液跑損綜合防治方法,該方法包括以下步驟:
(a)在脫硫富液進(jìn)入再生塔之前,采用液-固微旋流分離技術(shù)脫除脫硫富液中攜帶的固體顆粒;
(b)在再生塔頂空冷器后,采用氣-液微旋流分離技術(shù)回收再生塔排出的酸性氣中夾帶的胺液。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在步驟(a)中,經(jīng)所述液-固微旋流分離技術(shù)處理后,對(duì)3μm以上固體顆粒的去除率達(dá)到99%,對(duì)2μm以上固體顆粒去除率達(dá)到95%或更高。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在步驟(b)中,經(jīng)所述氣-液微旋流分離技術(shù)處理后,對(duì)2μm以上固體顆粒的去除率達(dá)到90%或更高。
4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,經(jīng)該方法處理后,再生過(guò)程中胺液的跑損減少50%。
5.一種脫硫溶劑再生過(guò)程的胺液跑損綜合防治裝置,該裝置包括:
置于再生塔(2)之前的液-固微旋流器(1),用于在脫硫富液進(jìn)入再生塔(2)之前脫除脫硫富液中攜帶的固體顆粒;
置于再生塔頂空冷器(3)之后的氣-液微旋流器(4),用于回收再生塔排出的酸性氣中夾帶的胺液。
6.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述液-固微旋流器(1)和氣-液微旋流器(4)是由一根或多根微旋流芯管并聯(lián)組成的,并且任選地,通過(guò)外設(shè)壓力容器組裝成一個(gè)整體,公用進(jìn)出口;其材質(zhì)均采用耐堿腐蝕材料。
7.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述液-固微旋流器(1)的分離精度為3μm,對(duì)3μm以上固體顆粒的去除率達(dá)到99%,對(duì)2μm以上固體顆粒的去除率達(dá)到95%或更高。
8.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述氣-液微旋流器(4)的分離精度為5μm,對(duì)2μm以上固體顆粒的去除率達(dá)到90%或更高,壓降小于30mmH2O柱。
9.如權(quán)利要求5-8中任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,所述氣-液微旋流器(4)內(nèi)置于胺液回流罐頂部。
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