[發明專利]一種納米多層結構的VC/Ni增韌涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 201210575085.7
• 申請日: 2012-12-26
• 公開（公告）號: CN103895283A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發明（設計）人: 黃峰;周小軍;李艷玲;張曉娟
• 申請（專利權）人: 中國科學院寧波材料技術與工程研究所
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/14;C23C14/06;C23C14/18
• 代理公司: 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224
• 代理人: 劉誠午

1.一種納米多層結構的VC/Ni增韌涂層，其特征在于，由VC層和Ni層交替沉積而成，相鄰的一層VC層和一層Ni層構成一個雙層周期層，每個雙層周期層的厚度為1～88nm，每個雙層周期層中VC層與Ni層的厚度比為1.0～3.0：1，納米多層結構的VC/Ni增韌涂層的總厚度為1～5μm。

2.根據權利要求1所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層，其特征在于，每個雙層周期層的厚度為3～60nm。

3.根據權利要求1或2所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層，其特征在于，每個雙層周期層的厚度均相等。

4.根據權利要求1所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層，其特征在于，每個雙層周期層的厚度為6～25nm，每個雙層周期層中VC層與Ni層的厚度比為2.0～3.0：1，且每個雙層周期層的厚度均相等。

5.根據權利要求1～4任一項所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層的制備方法，其特征在于，包括：將VC靶和Ni靶分別安裝在中頻陰極上，靶面垂直于旋轉工作臺，基體安裝在旋轉工作臺上，通過調節旋轉工作臺的轉速和靶的濺射功率，采用磁控濺射方法，對基體進行沉積，得到納米多層結構的VC/Ni增韌涂層。

6.根據權利要求5所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層的制備方法，其特征在于，沉積前，真空室的本底壓強小于等于5×10^-5Pa。

7.根據權利要求5所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層的制備方法，其特征在于，沉積時，沉積溫度為200℃～400℃，沉積壓力為0.3Pa～1.0Pa。

8.根據權利要求5所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層的制備方法，其特征在于，沉積時，VC靶濺射功率密度為4.0～6.5W/cm²，Ni靶濺射功率密度為0.5～0.9W/cm²。

9.根據權利要求5所述的納米多層結構的VC/Ni增韌涂層的制備方法，其特征在于，沉積時，所述的旋轉工作臺的轉速為0.5～4轉/分鐘。