[發(fā)明專(zhuān)利]薄膜晶體管無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210573688.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103904125A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾堅(jiān)信 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/786 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/786;H01L29/06 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜晶體管 | ||
1.一種薄膜晶體管,包括柵極、溝道層、位于柵極和溝道層之間的柵絕緣層以及位于溝道層相對(duì)的兩側(cè)并分別與溝道層相接觸的源極和漏極,其特征在于:該溝道層和柵絕緣層之間夾設(shè)有一第一原子捕獲層。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述溝道層為非晶性、多晶性或結(jié)晶性結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述溝道層具有微結(jié)晶結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述溝道層為氧化物半導(dǎo)體層。
5.如權(quán)利要求4所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述溝道層是金屬氧化物半導(dǎo)體層,該金屬氧化物半導(dǎo)體層所含金屬選自銦、鎵、鋅、錫、鋁、鉛、鉬、錳、鎂、鍺及鎘中的至少一者。
6.如權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述溝道層是氧化銦鎵鋅層。
7.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,該薄膜晶體管為頂柵結(jié)構(gòu)或底柵結(jié)構(gòu)薄膜晶體管。
8.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,該薄膜晶體管為共面結(jié)構(gòu)或反共面薄膜晶體管。
9.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,該薄膜晶體管為交錯(cuò)型或反交錯(cuò)型薄膜晶體管。
10.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層的成分包括碳、硅、鍺、錫、鉛、鎂、鈣、鍶、鋇、鈦、鎳、鋁、鈷、鉑、鈀及錳中的至少一者。
11.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層具有二維結(jié)構(gòu)。
12.如權(quán)利要求11所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為石墨烯層。
13.如權(quán)利要求11所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為硅原子層摻雜層。
14.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層的摻雜成分選自硅、鍺、碳、氮、鋁、硼、鎂、鈣、鍶、鋇、鈦、鎳及鈷中的一者。
15.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層具有三維結(jié)構(gòu)。
16.如權(quán)利要求15所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為多個(gè)石墨烯層的堆疊而成。
17.如權(quán)利要求15所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為多孔性半導(dǎo)體層。
18.如權(quán)利要求17所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為硅、鍺、鍺化硅或碳材質(zhì)的多孔性半導(dǎo)體層。
19.如權(quán)利要求18所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為多孔SixGe1-x半導(dǎo)體層,其中0≦x≦1。
20.如權(quán)利要求15所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為非晶性半導(dǎo)體層。
21.如權(quán)利要求20所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為硅、鍺、鍺化硅或碳材質(zhì)的非晶性半導(dǎo)體層。
22.如權(quán)利要求21所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為非晶性SixGe1-x半導(dǎo)體層,其中0≦x≦1。
23.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層為金屬層,且不與源極和漏極同時(shí)電連接。
24.如權(quán)利要求23所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一原子捕獲層的材質(zhì)選自鋁、錫、鉛、鎂、鈣、鍶、鋇、鈦、鎳、鈷、鉑、鈀及錳中的一者或其合金。
25.如權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,該薄膜晶體管還包括第二原子捕獲層,該第二原子捕獲層位于溝道層遠(yuǎn)離柵絕緣層的一側(cè)。
26.如權(quán)利要求1或25所述的薄膜晶體管,其特征在于,該薄膜晶體管還包括第二原子捕獲層,該第二原子捕獲層位于源極和漏極之間。
27.如權(quán)利要求26所述的薄膜晶體管,其特征在于,該第二原子捕獲層與源極和漏極中的一者連接。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專(zhuān)門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





