[發明專利]低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法

有效

• 申請號: 201210573609.9
• 申請日: 2012-12-26
• 公開（公告）號: CN103011630A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 王云山;許景秀
• 申請（專利權）人: 新疆藍天鎂業股份有限公司
• 主分類號: C04B2/10
• 分類號: C04B2/10;C01F5/20
• 代理公司: 烏魯木齊合縱專利商標事務所 65105
• 代理人: 湯潔

1.低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于按如下步驟進行：第一步，在煅燒爐內將低品位菱鎂礦石在煅燒溫度下煅燒，得到菱鎂礦輕燒礦石和二氧化碳，將二氧化碳回收，將該煅燒后的菱鎂礦輕燒礦石進行破碎并磨細成輕燒粉粉末；第二步，將輕燒粉粉末水化成輕燒粉漿料，與溶解后的銨鹽溶液在搪瓷釜內反應并攪拌，生成可溶性含鈣鎂鹽溶液、氨氣和浸出渣，氨氣經氨精餾塔及氨冷凝器后得到氨水，可溶性含鈣鎂鹽溶液與浸出渣固液分離后，加水洗滌浸出渣，洗滌水循環用于輕燒粉化漿；第三步，將第二步所得可溶性含鈣鎂鹽溶液和氨水與第一步所得二氧化碳反應，經過濾和固液分離后得到碳酸鈣、純凈鎂鹽溶液和銨鹽溶液，將純凈鎂鹽溶液與第二步所得的氨水在不銹鋼反應釜內反應并攪拌，生成氫氧化鎂及含游離氨的銨鹽溶液；第四步，將氫氧化鎂經過過濾洗滌組合操作后得到含水氫氧化鎂，進行干燥后得到高純氫氧化鎂，洗滌水經回收游離氨后用于第二步中的銨鹽溶解及輕燒粉化漿；第五步，將第四步所得含水氫氧化鎂煅燒得到高純氧化鎂。

2.根據權利要求1所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于第一步中的低品位菱鎂礦中MgCO₃含量為75%至90%，煅燒溫度為900℃至1100℃，輕燒粉磨細的粒度為-200目至+300目。

3.根據權利要求2所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于第二步中的輕燒粉漿料濃度為30%至40%，氯化銨濃度為20%至30%，在搪瓷釜內的反應溫度為100℃至120℃，攪拌轉速為80rpm至100rpm，反應時間為2h至4h。

4.根據權利要求3所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于第三步中，游離氨為過量的氨并循環使用，在不銹鋼反應釜內的溫度為70℃至90℃，攪拌轉速80?rpm至100rpm，反應及陳化時間為1.5h，氨水用量相對氯化鎂過量30%至50%。

5.根據權利要求1或2或3或4所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于第四步中，干燥溫度為130℃至170℃，第五步中的煅燒溫度為500℃至700℃，銨鹽為氯化銨或硫酸銨。

6.根據權利要求1或2或3或4所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于第四步中的過濾洗滌組合操作包括原位逆流洗滌三次，漿化洗滌一次，原位洗滌一次。

7.根據權利要求5所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于第四步中的過濾洗滌組合操作包括原位逆流洗滌三次，漿化洗滌一次，原位洗滌一次。

8.根據權利要求1或2或3或4所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于將第三步中所得含游離氨的銨鹽溶液分別經過提取、增濃及冷凝回收等操作得到氨水，該氨水在第三步進行重復使用；所得的銨鹽溶液在第二步進行重復使用。

9.根據權利要求7所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于將第三步中所得含游離氨的銨鹽溶液分別經過提取、增濃及冷凝回收等操作得到氨水，該氨水在第三步進行重復使用；所得的銨鹽溶液在第二步進行重復使用。

10.根據權利要求9所述的低品位菱鎂礦生產高純氫氧化鎂和氧化鎂的方法，其特征在于浸出渣為含鐵鋁硅鈣的浸出渣，浸出渣用于生產氯氧鎂水泥的添加料。