[發明專利]抗蝕劑添加劑及包含它的抗蝕劑組合物

有效

• 申請號: 201210573110.8
• 申請日: 2012-12-25
• 公開（公告）號: CN103186043A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 申珍奉;徐東轍;任鉉淳;韓俊熙
• 申請（專利權）人: 錦湖石油化學株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 黃麗娟;陳英俊

1.由下式（1）表示的抗蝕劑添加劑：

[化學式1]

其中在式（1）中，

R’、R”和R’”各自獨立地表示選自氫原子、C₁-C₄烷基、鹵原子和C₁-C₄鹵代烷基的基團，在所述C₁-C₄鹵代烷基中烷基中的一個氫原子被鹵素原子所取代；

R₁和R₂各自獨立地表示氫原子或者C₁-C₈烷基；

R₃表示選自氫原子和下式（2）和（3）表示的官能團的基團：

[化學式2]

[化學式3]

其中在式（2）和（3）中，

R₂₁表示氫原子或者選自C₁-C₂₀烷基、（C₁-C₂₀烷氧基）烷基、C₃-C₃₀環烷基、甲酰基、（C₁-C₂₀烷基）羰基、（C₃-C₃₀環烷基）羰基、（C₁-C₂₀烷基）羧基、和（C₃-C₃₀環烷基）羧基的羥基保護基團；

R₃₁表示選自C₁-C₂₀鹵代烷基、有機硅基團和C₃-C₂₀烴基的疏水基團，以使如果R₃₁表示有機硅基團，p表示0，而如果R₃₁表示C₁-C₂₀鹵代烷基或C₃-C₂₀烴基，p表示1；

R₂₂和R₃₂各自獨立地表示選自C₁-C₂₀亞烷基、C₂-C₂₀亞烯基、C₁-C₂₀雜亞烷基、C₂-C₂₀雜亞烯基、C₃-C₃₀亞環烷基、C₃-C₃₀亞環烯基、C₂-C₃₀雜環烷二基和C₃-C₃₀雜環烯二基的基團；

R₂₃和R₃₃各自獨立地表示選自和的酸不穩定性基團，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自獨立地表示選自C₁-C₂₀烷基、C₃-C₃₀環烷基、（C₁-C₁₀烷基）環烷基、羥基烷基、C₁-C₂₀烷氧基、（C₁-C₁₀烷氧基）烷基、乙酰基、乙酰基烷基、羧基、（C₁-C₁₀烷基）羧基、（C₃-C₁₈環烷基）羧基和C₃-C₃₀雜環烷基的基團，或者R_a、R_b、R_c和R_d相鄰基團可以彼此結合形成C₃-C₃₀飽和或不飽和烴環或C₂-C₃₀雜環基團；

x表示0-3的整數；y表示0-10的整數；

R₄表示選自C₁-C₂₀鹵代烷基、有機硅基團和C₃-C₂₀烴基的疏水性基團；

R₅表示選自氫原子、C₁-C₂₀烷基、C₂-C₂₀烯基、C₃-C₃₀環烷基、C₃-C₃₀環烯基、C₆-C₃₀芳基、C₁-C₂₀雜烷基、C₂-C₃₀雜環基團及其組合的基團；

l、m、n和o分別表示主鏈中相應的重復單元的比例，以使l+m+n+o=1，同時0<l/(l+m+n+o)<0.9，0.2<m/(l+m+n+o)<0.9，0≤n/(l+m+n+o)<0.9和0≤o/(l+m+n+o)<0.9，條件是當R₃表示氫原子或者由式（2）表示的官能團時，n不是0；和

p表示0或1的整數。