[發明專利]抗蝕劑添加劑及包含該添加劑的抗蝕劑組合物

有效

• 申請號: 201210572957.4
• 申請日: 2012-12-25
• 公開（公告）號: CN103186042A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 裵昌完;朱炫相;申大鉉;洪容和
• 申請（專利權）人: 錦湖石油化學株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 黃麗娟;陳英俊

1.一種由下式1表示的抗蝕劑添加劑：

式1

其中，R₁和R₂各自獨立地為氫原子或C1-C8烷基，

R₃選自C1-C20亞烷基、C2-C20亞烯基、C1-C20雜亞烷基、C2-C20雜亞烯基、C3-C30環烷二基、C3-C30環烯二基、C2-C30雜環烷二基和C3-C30雜環烷二基，其中至少一個氫原子被選自C1-C10烷基、C1-C20鹵代烷基和C3-C30環烷基中的一個基團取代或未被取代，

R₄是選自C1-C20鹵代烷基、有機硅基團和C3-C20烴基中的疏水性基團，

R₅是選自中的酸不穩定基團，其中R_a、R_b、R_c和R_d各自獨立地選自C1-C20烷基、C3-C30環烷基、(C1-C10烷基)環烷基、羥烷基、C1-C20烷氧基、(C1-C10烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰烷基、羧基、(C1-C10烷基)羧基、(C3-C18環烷基)羧基和C3-C30雜環烷基中，或者R_a、R_b、R_c和R_d相鄰基團之間稠合在一起形成C3-C30飽和或不飽和的烴環或C2-C30雜環基，p是0-3的整數，q是0-10的整數，

l、m和n分別是主鏈中重復單元的數目，其中l+m+n=1，0<l/(l+m+n)<0.99，0≤m/(l+m+n)<0.99和0<n/(l+m+n)≤0.20，以及

o是0或1的整數，其中如果o為0，則R₄是有機硅基團，而如果o為1，則R₄是C1-C20鹵代烷基或C3-C20烴基。

2.根據權利要求1所述的抗蝕劑添加劑，其中R₃選自C1-C10亞烷基、C2-C10亞烯基、C1-C10雜亞烷基、C2-C10雜亞烯基、C3-C18環烷二基、C3-C18環烯二基、C2-C18雜環烷二基和C3-C18雜環烷二基，其中至少一個氫原子被C1-C10烷基或C1-C10鹵代烷基取代或未被取代。

3.根據權利要求1所述的抗蝕劑添加劑，其中R₄選自C1-C10氟烷基、甲硅烷基、C1-C10烷基甲硅烷基、C3-C10直鏈或支鏈烷基、C3-C14單環環烷基、C8-C18二環環烷基、C10-C30三環環烷基和C10-C30四環環烷基。

4.根據權利要求1所述的抗蝕劑添加劑，其中R₄選自叔丁基、三氟甲基、三甲基甲硅烷基、二(三氟甲基)異丙基、五氟乙基和七氟丙基。

5.根據權利要求1所述的抗蝕劑添加劑，其中R₅選自其中R_a、R_b、R_c和R_d各自獨立地選自C1-C10烷基、C3-C14單環環烷基、C8-C20二環環烷基、C10-C30三環環烷基、C10-C30四環環烷基、(C1-C5烷基)環烷基、羥烷基、C1-C10烷氧基、(C1-C5烷氧基)烷基、乙酰基、乙酰烷基、羧基、(C1-C5烷基)羧基和(C3-C10環烷基)羧基中，或者R_a、R_b、R_c和R_d相鄰基團之間稠合在一起形成C6-C18飽和或不飽和的烴環或C5-C18雜環基，p是0-3的整數，q是0-5的整數。

6.根據權利要求1所述的抗蝕劑添加劑，其中R₅選自叔丁基、三甲基甲硅烷基、羥基-2-乙基、1-甲氧基丙基、1-甲氧基-1-甲基乙基、1-乙氧基丙基、1-乙氧基-1-甲基乙基、1-甲氧基-1-乙基、1-乙氧基-1-乙基、叔丁氧基-2-乙基、1-異丁氧基-1-乙基和由下式2a-2k表示的基團：

其中R'、R”和R”’各自獨立地為氫原子或C1-C10烷基，a和e各自獨立地為0-15的整數，b為0-11的整數，c和d各自獨立地為0-9的整數，f為0-7的整數，g和i各自獨立地為0-6的整數，h為0-4的整數，0≤c+d≤17和0≤c+f≤15。