[發明專利]微波激發PVD鍍膜設備

有效

• 申請號: 201210571946.4
• 申請日: 2012-12-25
• 公開（公告）號: CN103046007A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 王奉瑾
• 申請（專利權）人: 王奉瑾
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28;C23C14/54
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

1.一種微波激發PVD鍍膜設備，包括殼體及靶材，其特征在于：還包括具有微波發射喇叭的微波發生器，所述殼體具有密封的PVD腔體，所述PVD腔體內安裝有靶材載舟，所述靶材載舟具有用于放置所述靶材的容置槽，待鍍膜材料位于所述容置槽上方且其需鍍膜的一面與之相對；所述微波發生器的本體安裝于所述PVD腔體外，其微波發射喇叭設于所述PVD腔體內；所述PVD腔體內橫設有用于屏蔽微波的金屬網，該金屬網位于所述靶材載舟與所述待鍍膜材料之間。

2.如權利要求1所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述PVD腔體內安裝有用于驅動所述靶材載舟沿所述待鍍膜材料表面平行移動的移動裝置。

3.如權利要求2所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述移動裝置包括具有螺紋的絲桿及驅動該絲桿轉動的第一電機，所述靶材載舟開設有與所述絲桿的螺紋適配的螺孔，所述絲桿穿設于所述螺孔內。

4.如權利要求1所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述殼體開設有供所述待鍍膜材料進入所述PVD腔體的進料口，所述殼體還開設有供所述待鍍膜材料離開所述PVD腔體的出料口，所述進料口與所述出料口相對設置且均安裝有密封裝置。

5.如權利要求4所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述密封裝置包括彈性按壓于所述待鍍膜材料一面的第一滾筒及彈性按壓于所述待鍍膜材料另一面的第二滾筒。

6.如權利要求5所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述密封裝置還包括驅動所述第一滾筒或所述第二滾筒轉動的第二電機。

7.如權利要求1-6任一項所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述PVD腔體內安裝有水冷散熱裝置、用于檢測待鍍膜材料上鍍膜厚度的膜厚監控裝置、用于監控所述PVD腔體內部環境的視頻監控裝置以及測溫裝置。

8.如權利要求7所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述殼體設有向所述水冷散熱裝置注入冷卻液的入水口以及排出冷卻液的出水口。

9.如權利要求8所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述PVD腔體內安裝有四組所述水冷散熱裝置。

10.如權利要求7所述的微波激發PVD鍍膜設備，其特征在于：所述視頻監控裝置包括視頻鏡頭，所述殼體開設有用于安裝所述視頻鏡頭的鏡頭安裝孔。