[發明專利]自動曝光控制的實現方法

有效

• 申請號: 201210568785.3
• 申請日: 2012-12-24
• 公開（公告）號: CN103905736B
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發明（設計）人: 馮銳
• 申請（專利權）人: 南寧市躍龍科技有限公司
• 主分類號: H04N5/235
• 分類號: H04N5/235
• 代理公司: 深圳冠華專利事務所(普通合伙)44267
• 代理人: 諸蘭芬

1.一種自動曝光控制的實現方法，其特征在于，包括：

將控制電離室曝光量的輸出電壓依次經過模擬開關電路、采樣保持電路和A/D電路后輸入控制器；

由控制器將輸入電壓與基準曝光電壓經D/A電路輸出并由比較電路進行比較，當兩者數值相等時，中止曝光以實現AEC反饋回路的控制；

所述A/D電路使用過零點檢測的方法對采樣周期進行自適應調整；

所述過零點檢測的方法為：首先采集100個數據，計算其平均值，作為輸出電壓的平均值的估計值；再采樣100個數據，由比較電路與輸出電壓的平均值的估計值進行比較，計算過零點的數量并統計；根據此數量，調整采樣周期，當此數量大于20個時，令采樣周期為1ms，當此數量不大于10時，令采樣周期為5ms，其他令采樣周期為2ms。

2.根據權利要求1所述自動曝光控制的實現方法，其特征在于，控制器采用FPGA芯片實現。

3.根據權利要求1所述自動曝光控制的實現方法，其特征在于，電離室的輸出電壓通過一個分離電路降壓處理后傳送至A/D電路。

4.根據權利要求1所述自動曝光控制的實現方法，其特征在于，當電離室有輸出電壓時，由控制器向A/D電路傳送控制信號，使A/D電路將電離室的輸出電壓轉化為8位的數字信號并送到控制器的輸入端。