[發明專利]基于全反射原理的光學元件激光預處理方法及裝置

有效

• 申請號: 201210565352.2
• 申請日: 2012-12-24
• 公開（公告）號: CN103056514A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 吳周令;陳堅;吳令奇
• 申請（專利權）人: 合肥知常光電科技有限公司
• 主分類號: B23K26/00
• 分類號: B23K26/00;B23K26/06;B23K26/42
• 代理公司: 合肥天明專利事務所 34115
• 代理人: 金凱

1.基于全反射原理的光學元件激光預處理方法，其特征在于：將激光光束從透明光學元件的一側面入射到透明光學元件內部并照射到透明光學元件前表面的處理點1，在處理點1處,?激光光束的入射角度滿足光學全反射條件，經由全反射反射至透明光學元件后表面的處理點2處,依此類推,激光光束在透明光學元件內部前后表面之間進行多次全反射,直至經過處理點N之后從透明光學元件另一側面出射；即激光光束對樣品前后表面的處理點1至N以及樣品內部光束經過的區域都進行了輻照處理。

2.根據權利要求1所述的基于全反射原理的光學元件激光預處理方法，其特征在于：所述的激光光束在一個透明光學元件內部經過多次全反射對透明光學元件進行輻照處理之后,出射的激光光束經光路調整后依次進入另外一個或多個透明光學元件內部進行同樣的全反射輻照處理。

3.基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置，包括有激光光源，其特征在于：還包括有依次設置于激光光源的后端和透明光學元件一側面之間的激光能量調整控制裝置、激光光束整形處理裝置、激光光束分光楔板光束角度調整裝置，激光光束分光楔板的第一反射輸出端后設置有CCD成像裝置，其第二反射輸出端后設置有分光裝置，分光裝置的兩分光輸出端后分別設置有光電探測器和激光能量測量裝置。

4.根據權利要求3所述的基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置，其特征在于：所述的基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置還包括有相對透明光學元件另一側面設置的激光光束吸收裝置。

5.根據權利要求3所述的基于全反射原理的光學元件激光預處理裝置，其特征在于：所述的光束角度調整裝置選用激光高反鏡，所述的激光高反鏡固定于激光高反鏡裝夾調整裝置上。