[發(fā)明專利]一種陰極制備前處理裝置及清潔方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210563611.8 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103094021A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賽小鋒;韋永林;劉永安;盛立志;劉哲;趙寶升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | H01J9/12 | 分類號(hào): | H01J9/12;H01J37/32 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 王少文 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陰極 制備 處理 裝置 清潔 方法 | ||
1.一種陰極制備前處理裝置,包括支撐筒、連接法蘭、清潔裝置,所述支撐筒下端與連接法蘭絕緣連接,所述支撐筒上端設(shè)置有支撐筒蓋,所述支撐筒蓋上方設(shè)置有放置陰極窗的開(kāi)口,
其特征在于:
所述清潔裝置包括上圓環(huán)形電極、下圓環(huán)形電極、穿過(guò)連接法蘭的兩個(gè)電極引線、高壓直流電源,所述上圓環(huán)形電極為陰極,所述下圓環(huán)形電極為陽(yáng)極,所述上圓環(huán)形電極與陰極制備表面平行且與陰極制備表面同高或高于陰極制備表面,所述下圓環(huán)形電極與上圓環(huán)形電極平行且位于上圓環(huán)形電極下方;
所述兩個(gè)電極引線的上端分別與上圓環(huán)形電極和下圓環(huán)形電極連接,下端與高壓直流電源連接;
所述支撐筒上設(shè)置有氣孔,所述氣孔在支撐筒上的位置低于上圓環(huán)形電極高于下圓環(huán)形電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極制備前處理裝置,其特征在于:與上圓環(huán)形電極連接的電極引線同時(shí)與支撐筒或支撐筒蓋連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種陰極制備前處理裝置,其特征在于:還包括陶瓷絕緣環(huán),所述陶瓷絕緣環(huán)設(shè)置在支撐筒與連接法蘭之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種陰極制備前處理裝置,其特征在于:所述上圓環(huán)形電極和下圓環(huán)形電極由直徑1毫米的細(xì)絲形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種陰極制備前處理裝置,其特征在于:所述高壓直流電源的電壓在0~2000伏范圍內(nèi)調(diào)節(jié),直流電流在0~20毫安范圍內(nèi)調(diào)節(jié);上圓環(huán)形電極和下圓環(huán)形電極之間的間距在5~20mm之間調(diào)節(jié);下圓環(huán)形電極與陰極支撐筒的距離大于20mm;上圓環(huán)形電極和下圓環(huán)形電極的直徑在20~50mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。
6.一種陰極制備前的清潔方法,其特征在于:具體步驟如下:
1】將陰極窗固定在圓筒形支撐筒的上端,使其待清潔表面朝里;
2】將兩個(gè)水平放置、間隔一定距離、由細(xì)絲成型的圓環(huán)形電極放入支撐筒內(nèi),上圓環(huán)形電極接高壓直流電源陰極,下圓環(huán)形電極接高壓直流電源陽(yáng)極,其中上圓環(huán)形電極平面和陰極窗制備陰極的表面平行,位置可以同一水平面或略高;
3】將陰極窗和支撐筒放置在真空環(huán)境中;
4】向支撐筒內(nèi)通入惰性氣體,使支撐筒內(nèi)惰性氣體的壓力達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡并滿足輝光放電的條件;
5】在上圓環(huán)形電極和下圓環(huán)形電極之間加直流高壓,時(shí)間5分鐘,完成清潔。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陰極制備前的清潔方法,其特征在于:所述惰性氣體為氮?dú)饣驓鍤狻?/p>
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