[發明專利]伐地那非的抗原模擬表位及其應用

無效

• 申請號: 201210561376.0
• 申請日: 2012-12-21
• 公開（公告）號: CN103044526A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 何慶華;許楊;劉星
• 申請（專利權）人: 南昌大學
• 主分類號: C07K7/06
• 分類號: C07K7/06;C12N15/11;G01N33/68
• 代理公司: 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115
• 代理人: 施秀瑾

1.伐地那非的抗原模擬表位，其特征在于氨基酸序列為CKFPSHPYC。

2.編碼權利要求1所述抗原模擬表位氨基酸序列的核苷酸序列。

3.如權利要求2所述的核苷酸序列AAG?TTT?CCG?TCG?CAT?CCT?TAT。

4.如權利要求1所述抗原模擬表位的制備方法，其特征在于通過噬菌體擴增、化學合成或基因工程重組表達的方式進行大量制備；所述噬菌體擴增是指將展示有伐地那非抗原模擬表位的噬菌體，通過生物擴增的方式，大量繁殖生產展示有伐地那非抗原模擬表位的噬菌體粒子；所述化學合成指依據模擬表位模擬表位氨基酸序列，通過化學合成多肽的方式進行多肽合成；所述基因工程重組表達的方式是指將編碼模擬表位的基因，通過克隆至表達載體，以多肽-融合蛋白的形式進行伐地那非抗原模擬表位的大量制備。

5.權利要求1所述抗原模擬表位在免疫學檢測分析中的應用。

6.如權利要求5所述應用，其特征在于伐地那非抗原模擬表位以固相抗原或競爭抗原在免疫學檢測分析中的應用。

7.如如權利要求5所述應用，其特征在于伐地那非抗原模擬表位作為固相抗原在膠體金免疫層析檢測分析中的應用。