[發(fā)明專利]襯底承載裝置及金屬有機化學(xué)氣相沉積設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210560614.6
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN103074611A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 梁秉文
• 申請（專利權(quán)）人: 光達光電設(shè)備科技（嘉興）有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種襯底承載裝置，其包括承載板，所述承載板包括支撐面，待處理襯底設(shè)置于所述支撐面，其特征在于：所述承載裝置進一步包括多個定位銷，所述定位銷設(shè)置于所述支撐面，所述定位銷用于限定待處理襯底在所述支撐面上的位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述定位銷的橫截面積小于或等于4平方毫米。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底承載裝置，其特征在于：待處理襯底設(shè)置在所述支撐面上并與所述定位銷接觸時，待處理襯底與定位銷點接觸。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述定位銷的橫截面為圓形、多邊形或橢圓形。

5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一個所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述定位銷在所述支撐面上的設(shè)置使得待處理襯底能夠在所述支撐面上呈蜂窩狀排列。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述支撐面具有多個定位孔，所述定位銷通過插入到所述定位孔中而設(shè)置在所述支撐面。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述多個定位孔在所述支撐面上的排布設(shè)置使得待處理襯底可以以多種排布方式在所述支撐面上排布。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述待處理襯底包括大襯底和小襯底，所述大襯底的尺寸大于所述小襯底，所述待處理襯底的排布方式包括小襯底排布、大襯底和小襯底混合排布、大襯底排布。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述待處理襯底的排布方式包括蜂窩狀排布和沿所述承載板徑向分層排布。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述承載板呈圓盤狀，構(gòu)成所述承載板的材料為石墨、碳化硅、涂敷有碳化硅的石墨或金屬鉬。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述定位銷突出所述支撐面的部分，越遠離所述支撐面，定位銷的截面面積越小。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的襯底承載裝置，其特征在于：述定位銷突出所述支撐面的部分呈針尖狀。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底承載裝置，其特征在于：構(gòu)成所述定位銷的材料為絕熱材料。

14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的襯底承載裝置，其特征在于：所述定位銷還包含有鐵磁性材料部。

15.一種金屬有機化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其包括腔體，設(shè)置在所述腔體上部的進氣裝置、設(shè)置在所述腔體底部的襯底承載裝置以及加熱器，所述襯底承載裝置與所述進氣裝置相對設(shè)置，所述加熱器加熱所述襯底承載裝置，其特征在于：所述襯底承載裝置為如上述權(quán)利要求任意一項所述的襯底承載裝置。