[發(fā)明專利]用于制造帶有孔洞的硅微針陣列的方法以及微針陣列在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210560534.0 | 申請日: | 2012-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN103172015A | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | M.斯圖伯 | 申請(專利權)人: | 羅伯特·博世有限公司 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00;A61M37/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 宣力偉;楊國治 |
| 地址: | 德國斯*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制造 帶有 孔洞 硅微針 陣列 方法 以及 | ||
1.由微機械的半導體材料制造具有孔洞(22-25、42-45、55-58、71-74)的微針陣列(11、30、40、50、60)的方法,由以下方法步驟開始:
a)由微機械的半導體材料制造具有平坦側面(27、69)和針側面(26、68)的微針陣列(11、30、40、50、60);
其特征在于用于微針陣列的多個微針(13-16、51-54、64-67)的以下方法步驟:
b)相對于微針陣列的微針(13-16、51-54、64-67)定位激光器(18-21);
c)借助于激光打孔在微針陣列中打孔形成孔洞(22-25、42-45、55-58、71-74)。
2.按權利要求1所述的方法,其特征在于,所述微針陣列(11、30、40、50、60)具有晶體硅。
3.按權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述微針陣列(11、30、40、50、60)具有多孔的微機械的半導體材料,尤其多孔硅。
4.按權利要求1到3中任一項所述的方法,其特征在于,相對于微針(51-54)定位激光器(18-21),從而在微針(51-54)中打孔形成孔洞(55-58)。
5.按權利要求1到3中任一項所述的方法,其特征在于,相對于微針定位激光器(18-21),從而在微針的側面中打孔形成孔洞。
6.按權利要求1到3中任一項所述的方法,其特征在于,相對于微針(13-16)定位激光器(18-21),從而在微針旁邊打孔形成孔洞(22-25、42-45)。
7.按權利要求1到6中任一項所述的方法,其特征在于,相對于微針定位激光器(18-21),從而從微針陣列(11)的針側面(26)起打孔形成孔洞(22-25)。
8.按權利要求1到6中任一項所述的方法,其特征在于,相對于微針定位激光器(18-21),從而從微針陣列(40、50、60)的平坦側面(27、69)打孔形成孔洞(42-45、55-58、71-74)。
9.按權利要求1到8中任一項所述的方法,其特征在于,所述孔洞(71-74)構造成盲孔。
10.按權利要求1到9中任一項所述的方法,其特征在于,所述激光器是Nd:YAG激光器。
11.按權利要求1到10中任一項所述的方法,其特征在于,在同一針(51-54)中打多個孔洞(55-58)或者使一個孔洞配屬于多個針。
12.具有由微機械的半導體材料制成的基底(61;81)的微針陣列(60、80),其中微針(64、65、66、67;84、85、86、87)從基底(61;81)伸出,其中所述微針陣列(60、80)具有平面的背面(69、89)以及對置于所述背面、帶有微針(64、65、66、67;84、85、86、87)的針側面(68、88),其中所述基底(61;81)具有孔洞(71、72、73、74;91、92、93、94),其特征在于,所述微針陣列(60、80)具有由微機械的半導體材料制成的微針(64、65、66、67;84、85、86、87)。
13.按權利要求12所述的微針陣列(11、30、40、50、60),其特征在于,所述基底(61;81)具有鄰接微針(64、65、66、67;84、85、86、87)的多孔的基底層(63、83)。
14.按權利要求13所述的微針陣列(11、30、40、50、60),其特征在于,所述孔洞(71、72、73、74;91、92、93、94)從背面開始并且構造成盲孔(71、72、73、74;91、92、93、94),所述盲孔在多孔的基底層(63、83)中結束。
15.按權利要求14所述的微針陣列(11、30、40、50、60),其特征在于,所述盲孔(71、72、73、74;91、92、93、94)布置在微針(64、65、66、67;84、85、86、87)的下面或旁邊。
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