[發明專利]水處理系統與方法

有效

• 申請號: 201210559996.0
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN103880121A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 夏子君;黃群健;隋志宇;房建華;謝小安
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 封新琴

1.一種水處理系統，包括：電解池，其包括：

第一電極；

第二電極，其包括包含式I結構單元的聚合物的涂層；及

電源，其為第一與第二電極供電；

其中，

每個R¹獨立地為C₁-C₆烷基或者-SO₃H；

每個R²獨立地為C₁-C₆烷基；

每個a獨立地為0至4之間的整數；

每個b獨立地為0至3之間的整數。

2.如權利要求1所述的水處理系統，其中b=0。

3.如權利要求2所述的水處理系統，其中a=0。

4.如權利要求2所述的水處理系統，其中a=1，R¹為-SO₃H。

5.如權利要求1至4中任一項所述的水處理系統，其中電解池包括在第一電極與聚合物的涂層之間的液體空間。

6.如權利要求1至4中任一項所述的水處理系統，其中電解池包括與聚合物的涂層相對且遠離第一電極的氣體空間。

7.一種水處理方法，包括：

使電流通過電解質水溶液；

氧化電解質水溶液中的至少一部分陰離子，以生成氧化產物；

還原至少一些氧氣，以生成氫氧根離子；

使氫氧根離子通過包含式I結構單元的聚合物的涂層以接近氧化產物，以便同氧化產物以及電解質水溶液中的陽離子反應生成次氯酸鹽；及

將次氯酸鹽加入水中以控制微生物水平；

其中，

每個R¹獨立地為C₁-C₆烷基或者-SO₃H；

每個R²獨立地為C₁-C₆烷基；

每個a獨立地為0至4之間的整數；

每個b獨立地為0至3之間的整數。

8.如權利要求7所述水處理方法，其中所述電解質水溶液為鹵化堿溶液。

9.如權利要求7所述水處理方法，其中所述氧化產物為雙原子鹵化物氣體。

10.如權利要求7所述水處理方法，其中所述電解質水溶液為氯化鈉溶液或氯化鉀溶液。

11.如權利要求7至10中任何一項所述水處理方法，其中所述包含式I結構單元的聚合物包含式結構單元。

12.如權利要求7至10中任何一項所述水處理方法，其中所述包含式I結構單元的聚合物包含式結構單元。

13.如權利要求7至10中任何一項所述水處理方法，其中所述涂層位于電解池的電極上。