[發明專利]待曝光基材及底片的對位方法及影像檢測對位系統

有效

• 申請號: 201210559900.0
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN103034072A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 徐嘉偉;王啟毓;張茂和
• 申請（專利權）人: 志圣科技（廣州）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 廣州市越秀區海心聯合專利代理事務所(普通合伙) 44295
• 代理人: 任琳

技術領域

本發明涉及一種基材及底片的對位曝光技術，具體地說，是一種待曝光基材及底片的對位方法，本發明還涉及實現該方法的影像檢測對位系統。

背景技術

高端的電子產品如移動電話、液晶顯示器、平板電腦、照相裝置、個人數位助理等，其顯示熒幕的線路設計日趨精細，許多制造過程的精度要求也更加嚴格，例如：曝光制造過程，以目前多以人工目測的對位方式，但該對位方式很難以應付未來更為嚴苛的要求。此外，目前以十字形、圓形或方形的特殊的對位標靶圖形，無法應用在透明基材上，如觸控面板。

發明內容

針對上述問題，本發明提供一種在待曝光基材及底片中，無需特殊的對位標靶，就可精確對位的方法及檢測系統。

為解決上述技術問題，本發明的提供前一技術方案是這樣的：一種待曝光基材及底片的對位方法，至少有二組攝影單元、一套調整機構和一個控制裝置配合運作，所述的控制裝置控制調整機構以調整該基材及該底片的相對位置，該方法包括下述步驟：

（a）每個攝影單元分別拍攝一張影像，每張影像的視野范圍包括基材邊緣及底片邊界；

（b）控制裝置定位出步驟（a）中影像的基材邊緣及底片邊界；

（c）控制裝置根據步驟（b）中定位的基材邊緣及該底片邊，計算一偏移量；

（d）控制裝置根據步驟（c）計算的偏移量驅動調整機構，并依次調整基材及該底片的相對位置，使該基材及該底片彼此對齊。

進一步的，上述的待曝光基材及底片的對位方法，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材邊緣，所述的控制裝置的調節步驟如下：

步驟（b）是先定位出第一張影像中的底片邊界與影像中心線的第一交點，再定位出第二張影像中的底片邊界與影像中心線的第二交點；

步驟（c）是先計算該第一交點及該第二交點之間的距離，再測量出第一張影像中過第一交點與相應的第一底片邊界垂直的第一間距，以及第二張影像中第二交點與相應的第二底片邊界垂直的第二間距，最后將所述的兩交點之間的距離、第一間距和第二間距代入三角函式換算一偏移角度；

步驟（d）是根據步驟（c）的偏移角度驅動該調整機構，調整該基材的位置。

進一步的，上述的待曝光基材及底片的對位方法，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的上邊緣和下邊緣，所述的控制裝置的調節步驟如下：

步驟（b）分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界；

步驟（c）先計算出第一張影像的基材邊緣與對應的底片上邊界之間的上間距，再計算出第二張影像的基材邊緣與對應的底片下邊界之間的下間距；

步驟（d）根據步驟（c）所述的上間距和下間距之差值調整基材的位置，使上方間距與下間距基本相等。

進一步的，上述的待曝光基材及底片的對位方法，所述的攝影單元的拍攝位置朝向基材的左邊緣和右邊緣，所述的控制裝置的調節步驟如下：

步驟（b）分別定位出兩張影像中的基材邊緣及底片邊界；

步驟（c）計算第一張影像的基材邊緣與相應的底片邊界之間的左間距，再計算出第二張影像的基材邊緣與相應的底片邊界之間的右間距；

步驟（d）根據步驟（c）所述的左間距及右方距之差值調整該基材的位置，使左間距和右方距基相等。

為實現上述方法，本發明的一種待曝光基材及底片的影像檢測對位系統，包括：一套調整機構，至少二組攝影單元和一套控制裝置，控制裝置電性連接調整機構及各該攝影單元；

所述的控制裝置包括一個用于定位出兩影像中的基材邊緣及底片邊界的影像處理單元，?一個根據基材邊緣及該底片邊界計算偏移量的判斷單元，以及一個根據偏移量驅動該調整機構，以此來調整基材及該底片的相對位置使基材及該底片相對齊的控制單元；

所述的攝影單元每組獨立拍攝一張影像，每個影像視野范圍包括一基材邊緣及一底片邊界。

進一步的，上述的待曝光基材及底片的影像檢測對位系統，所述的各組攝影單元的拍攝位置分別朝向該基材的同一邊緣；

所述的影像處理單元先定位出第一張影像中的底片邊界與相應的影像中心線的第一交點，再定位出第二張影像中的底片邊界與相應的影像中心線的第二交點；

所述的判斷單元計算第一交點及該第二交點之間的距離，再測量出第一張影像中過第一交點與相應的第一底片邊界垂直的第一間距，以及第二張影像中第二交點與相應的第二底片邊界垂直的第二間距，最后將所述的兩交點之間的距離、第一間距和第二間距代入三角函式換算一偏移角度；

所述的控制單元依據偏移角度驅動該調整機構以調整該基材的位置。