[發(fā)明專利]一種氣液傳質(zhì)設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210559184.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103007693A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王健祥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 泰州職業(yè)技術(shù)學(xué)院;王健祥 |
| 主分類號(hào): | B01D53/18 | 分類號(hào): | B01D53/18;B01J10/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 225300 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 傳質(zhì) 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種化工生產(chǎn)設(shè)備,具體涉及一種化工生產(chǎn)中的氣液相反應(yīng)或吸收接觸的情況。屬于氣液傳質(zhì)化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
氣液傳質(zhì)設(shè)備是氣液傳熱、傳質(zhì)過程的常用設(shè)備。塔內(nèi)氣液兩相的流動(dòng)行為對(duì)氣液傳質(zhì)設(shè)備的傳熱、傳質(zhì)效率具有重要影響。常規(guī)塔設(shè)備考慮到氣液傳質(zhì)設(shè)備的工程因素,通過改造塔體內(nèi)的塔板結(jié)構(gòu)或安裝填料追求盡可能大的比表面積,促進(jìn)氣液傳質(zhì)。一般地,化工生產(chǎn)中運(yùn)行的氣液傳質(zhì)設(shè)備是液體由降液管向下流動(dòng),從專門設(shè)定的降液管與下層塔板間的縫隙進(jìn)入并水平穿過下層塔板,這樣反復(fù)一直流到塔釜。塔板上的液層厚度由出口堰的高度決定,而氣體則自下而上通過踏板上的開孔,進(jìn)入并穿過版上液層實(shí)現(xiàn)傳熱、傳質(zhì)。在這種傳統(tǒng)的氣液傳質(zhì)設(shè)備中,氣液傳質(zhì)設(shè)備中的塔板都是連接于塔節(jié)上,并且含有塔柱,是氣液接觸面積減少,氣液傳質(zhì)設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)上述的問題,提供一種塔板直接固定于塔壁,或固定于由塔壁伸出的橫梁上,不含有塔柱,且在保證大持液量的前提下,擴(kuò)大液體或氣體的接觸面積的氣液傳質(zhì)設(shè)備。
為解決上述問題,本發(fā)明是采取以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的:
一種氣液傳質(zhì)設(shè)備,包括塔體、塔板A、塔板B、塔壁夾層外壁、密封墊片、橫梁、氣體進(jìn)口、液體出口、下封頭、上封頭、液體入口、氣體出口、塔節(jié)、上齒堰、下齒堰、連接件和排污口,所述塔板A固定于塔體上,所述塔板B固定于塔壁伸出的橫梁上。
所述塔板A或塔板B的上表面設(shè)有上齒堰。
所述塔板A或塔板B的上堰高h(yuǎn)1=30-200mm,h2=3-180mm。
所述塔板A或塔板B的下表面設(shè)有下齒堰(15),分布齒高h(yuǎn)3=5-200m。
所述塔板A或塔板B中平面區(qū)內(nèi)設(shè)有孔,孔徑為φ=2-10mm,數(shù)量1-5個(gè)。
本發(fā)明的有益效果是:塔板直接連接于塔壁,或固定于由塔壁伸出的橫梁上,不含有塔柱。單節(jié)塔身可設(shè)多片塔板,減少了塔節(jié)的數(shù)量,經(jīng)濟(jì)效益明顯提高。塔板上可根據(jù)具體項(xiàng)目的工藝特點(diǎn),設(shè)計(jì)不同高度的鋸齒上堰,從而保證合適的持液量;該塔具有氣體和液體的流量變化范圍——操作彈性大,不會(huì)產(chǎn)生由于氣體和液體流量變化而引起液泛和漏液現(xiàn)象,導(dǎo)致塔體不能正常工作;氣液接觸僅在液幕上鼓泡,反應(yīng)塔系統(tǒng)阻力特別小;塔板制作與操作簡(jiǎn)單,可以用以用與工藝物料相適應(yīng)的金屬材料或者耐酸陶瓷材料直接制成以適應(yīng)該系列物料可能強(qiáng)腐蝕的特點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的連接件局部放大圖。
圖3為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的塔板A的俯視圖。
圖4為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的塔板A的主視圖。
圖5為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的塔板A的局部剖視圖。
圖6為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的塔板B的俯視圖。
圖7為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的塔板B的主視圖。
圖8為本發(fā)明氣液傳質(zhì)設(shè)備的塔板B的局部剖視圖。
其中:1-塔體;2-塔板A;3-塔板B;?4-塔壁夾層外壁;?5-密封墊片;6-橫梁;7-氣體進(jìn)口;8-液體出口;9-下封頭;10-上封頭;11-液體入口;12-氣體出口;13-塔節(jié);14-上齒堰;15-下齒堰;16-連接件;17-排污口。
具體實(shí)施方式
結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
圖1和圖2所示,氣液傳質(zhì)設(shè)備,包括塔體1、塔板A2、塔板B3、塔壁夾層外壁4、密封墊片5、橫梁6、氣體進(jìn)口7、液體出口8、下封頭9、上封頭10、液體入口11、氣體出口12、塔節(jié)13、上齒堰14、下齒堰15、連接件16和排污口17,塔板A2固定于塔體1上,塔板B3固定于塔壁伸出的橫梁6上。
如圖3、圖4和圖5所示,塔板A2的上表面設(shè)有上齒堰14,上堰高h(yuǎn)1=30-200mm,h2=3-180mm,塔板A2的下表面設(shè)有下齒堰15,分布齒高h(yuǎn)3=5-200mm。塔板A2上設(shè)有孔,孔徑為φ=2-10mm,數(shù)量1-5個(gè)。塔板上的有小孔為停車時(shí)排放塔板持液時(shí)使用。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于泰州職業(yè)技術(shù)學(xué)院;王健祥,未經(jīng)泰州職業(yè)技術(shù)學(xué)院;王健祥許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210559184.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





