[發(fā)明專利]鈍化后互連件結(jié)構(gòu)及其形成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210559178.0 | 申請日: | 2012-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN103681611B | 公開(公告)日: | 2016-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳憲偉;陳英儒 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/538 | 分類號: | H01L23/538;H01L23/498 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孫征 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鈍化 互連 結(jié)構(gòu) 及其 形成 方法 | ||
1.一種器件,包括:
金屬焊盤;
鈍化層,與所述金屬焊盤的邊緣部分重疊;
第一聚合物層,位于所述鈍化層的上方;
鈍化后互連件(PPI),包括:
水平部分,覆蓋所述第一聚合物層;和
插頭部分,包括連接至所述水平部分的頂部,所述插頭部分延伸進(jìn)所述第一聚合物層,所述插頭部分的底面與介電材料相接觸;以及第二聚合物層,覆蓋所述第一聚合物層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,其中,所述插頭部分的底面與所述鈍化層的頂面相接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,進(jìn)一步包括:
凸塊下金屬化層(UBM),延伸進(jìn)所述第二聚合物層以電連接至所述PPI;以及
電連接件,位于所述UBM的上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的器件,其中,所述插頭部分不與所述UBM對準(zhǔn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的器件,其中,所述PPI不具有與所述UBM重疊的插頭部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,進(jìn)一步包括:延伸進(jìn)所述第一聚合物層且連接至所述PPI的所述水平部分的多個插頭部分,所述多個插頭部分的底面與所述鈍化層的頂面相接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,其中,所述PPI包括銅,并且所述鈍化層包括:
氧化物層;以及
氮化物層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,其中,所述PPI進(jìn)一步包括將所述水平部分電連接至所述金屬焊盤的第三部分。
9.一種器件,包括:
金屬焊盤;
鈍化層,與所述金屬焊盤的邊緣部分重疊;
第一聚合物層,覆蓋所述鈍化層;
鈍化后互連件(PPI),包括:
水平部分,覆蓋所述第一聚合物層;
多個插頭部分,位于所述水平部分的下方且延伸進(jìn)所述第一聚合物層,所述插頭部分的底面與所述鈍化層相接觸;和
第三部分,將所述水平部分電連接至所述金屬焊盤;
第二聚合物層,位于所述第一聚合物層的上方;
凸塊下金屬化層(UBM),延伸進(jìn)所述第二聚合物層以電連接至所述PPI;以及
連接件,位于所述UBM的上方且通過所述PPI電連接至所述金屬焊盤。
10.一種器件,包括:
金屬焊盤;
鈍化層,包括與所述金屬焊盤的邊緣部分重疊的部分;
第一聚合物層,位于所述金屬焊盤的上方;
鈍化后互連件(PPI),包括:
第一部分,覆蓋所述第一聚合物層;和
第二部分,位于所述第一部分的下方且將所述第一部分電連接至所述金屬焊盤;以及
第二聚合物層,包括:
水平部分,位于所述PPI的上方;和
聚合物插頭部分(聚合物插頭),延伸進(jìn)所述PPI且被所述PPI環(huán)繞。
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