[發明專利]在常溫下檢測氣體的基于柔性襯底的敏感膜的制備方法

無效

• 申請號: 201210558876.9
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN103033539A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 李冬梅;詹爽;梁圣法;陳鑫;李小靜;張浩;羅慶;謝常青;劉明
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G01N27/00
• 分類號: G01N27/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 任巖

1.一種制備基于柔性襯底的在常溫下檢測氣體的敏感膜材料的方法，其特征在于，包括：

選取一柔性襯底，并清洗該柔性襯底；

在該柔性襯底表面涂敷一層光刻膠，對該光刻膠進行光刻顯影，在該柔性襯底表面形成電極圖形；

在表面具有光刻膠及電極圖形的柔性襯底上依次沉積Cr和Au；

剝離該柔性襯底上的光刻膠及光刻膠上沉積的Cr和Au，形成Au電極；以及

在已形成Au電極的該柔性襯底上沉積一層摻雜Ag的SnO₂敏感膜。

2.根據權利要求1所述的制備基于柔性襯底的在常溫下檢測氣體的敏感膜材料的方法，其特征在于，所述柔性襯底是PI或PET襯底。

3.根據權利要求1所述的制備基于柔性襯底的在常溫下檢測氣體的敏感膜材料的方法，其特征在于，所述在該柔性襯底表面涂敷一層光刻膠的步驟中，所述光刻膠為9920正膠。

4.根據權利要求1所述的制備基于柔性襯底的在常溫下檢測氣體的敏感膜材料的方法，其特征在于，所述在表面具有光刻膠及電極圖形的柔性襯底上依次沉積Cr和Au的步驟中，是采用電子束蒸發技術在表面具有光刻膠及電極圖形的柔性襯底上依次沉積Cr和Au。

5.根據權利要求1所述的制備基于柔性襯底的在常溫下檢測氣體的敏感膜材料的方法，其特征在于，所述在已形成Au電極的該柔性襯底上沉積一層摻雜Ag的SnO₂敏感膜的步驟中，是采用浸涂、噴印或絲網印刷方法在已形成Au電極的該柔性襯底上沉積一層摻雜Ag的SnO₂敏感膜。

6.根據權利要求5所述的制備基于柔性襯底的在常溫下檢測氣體的敏感膜材料的方法，其特征在于，所述Ag摻雜采用的是在溶液中直接摻雜的方法，向AgNO₃溶液中加入NaBH₄溶液，十二烷基硫酸鈉做為表面活性劑，通過NaBH₄與AgNO₃的還原反應形成Ag的溶液，然后向此溶液中加入SnO₂混合，一方面使Ag與SnO₂的混合更均勻，另一方面通過Ag的摻雜來提高SnO₂在常溫下對被測氣體的響應。