[發(fā)明專利]一種雙乘波體對(duì)拼吸氣式高超飛行器前體及其設(shè)計(jì)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210558589.8
• 申請(qǐng)日: 2012-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN103029830A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔凱;胡守超;李廣利;屈志朋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院力學(xué)研究所
• 主分類號(hào): B64C21/00
• 分類號(hào): B64C21/00
• 代理公司: 北京和信華成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11390
• 代理人: 胡劍輝

1.一種雙乘波體對(duì)拼吸氣式高超飛行器前體，其特征在于，包括：

左乘波體和右乘波體，所述左乘波體和右乘波體間隔預(yù)定間距對(duì)稱設(shè)置；

拼接面，形成在所述左、右乘波體的下前緣線之間，所述拼接面用于縫合左右乘波體下前緣線間的縫隙，并作為前體的升力面為飛行器提供額外的升力；

上壁面，形成在所述拼接面前緣線和所述左、右乘波體上前緣線之間，所述上壁面用于縫合左右乘波體上前緣線間的縫隙。

2.一種雙乘波體對(duì)拼吸氣式高超飛行器前體的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，包括如下步驟：

1）形成對(duì)稱的間隔預(yù)定間距的左乘波體和右乘波體；

2）連接左、右乘波體的下前緣線生成拼接面；

3）將拼接面前緣線和左、右乘波體上前緣線直接上移并進(jìn)行相應(yīng)的鈍化處理；

4）在上移后的拼接面前緣線和左、右乘波體上前緣線之間形成上壁面。