[發明專利]一種防止晶片碎裂的檢測裝置有效
| 申請號: | 201210557540.0 | 申請日: | 2012-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN103887208A | 公開(公告)日: | 2014-06-25 |
| 發明(設計)人: | 馬東;解毅;趙洪濤;何雅彬;馬世余;王喆;沈瑜俊;吳奇昆;孫亭 | 申請(專利權)人: | 上海華虹宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 張靜潔;徐雯瓊 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防止 晶片 碎裂 檢測 裝置 | ||
1.一種防止晶片碎裂的檢測裝置,用于具有多處理腔的半導體設備中;其中,所述半導體設備包含傳輸腔(1),以及呈星型設置在所述傳輸腔周圍的若干處理腔(2);所述傳輸腔(1)包含晶片傳輸緩沖腔(11)和晶片存儲腔(12);其特征在于,
所述的檢測裝置是設置在晶片存儲腔(12)內的,用于檢測晶片在晶片存儲腔(12)內的放置位置是否存在偏差;
所述的檢測裝置包含第一傳感器(51);接收該第一傳感器(51)發出的檢測信號的第一接收器(61);第二傳感器(52);以及接收該第二傳感器(52)發出的檢測信號的第二接收器(62)。
2.如權利要求1所述的防止晶片碎裂的檢測裝置,其特征在于,所述第一傳感器(51)設置在晶片存儲腔(12)的頂蓋上,且位于晶片存儲腔(12)與晶片傳輸緩沖腔(11)的連接側的中間位置。
3.如權利要求2所述的防止晶片碎裂的檢測裝置,其特征在于,所述的第一傳感器(51)緊貼晶片存儲腔(12)的內壁設置。
4.如權利要求3所述的防止晶片碎裂的檢測裝置,其特征在于,所述第一接收器(61)設置在晶片存儲腔(12)的底部,且位于所述第一傳感器(51)的垂直下方位置;所述第一傳感器(51)發出的檢測信號通過晶片與晶片存儲腔(12)內壁之間的間隙傳輸至第一接收器(61)。
5.如權利要求2所述的防止晶片碎裂的檢測裝置,其特征在于,所述第二傳感器(52)設置在晶片存儲腔(12)的頂蓋上,且位于晶片存儲腔(12)與外部片匣(4)的連接側的中間位置,其與所述第一傳感器(51)水平相對設置。
6.如權利要求5所述的防止晶片碎裂的檢測裝置,其特征在于,所述的第二傳感器(52)緊貼晶片存儲腔(12)的內壁設置。
7.如權利要求6所述的防止晶片碎裂的檢測裝置,其特征在于,所述第二接收器(62)設置在晶片存儲腔(12)的底部,且位于所述第二傳感器(52)的垂直下方位置;所述第二傳感器(52)發出的檢測信號通過晶片與晶片存儲腔(12)內壁之間的間隙傳輸至第二接收器(62)。
8.如權利要求5所述的防止晶片碎裂的檢測裝置,其特征在于,在所述晶片存儲腔(12)的頂蓋上設置有兩個安裝支架,所述的第一傳感器(51)和第二傳感器(52)分別通過這兩個安裝支架固定設置在晶片存儲腔(12)的頂蓋上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





