[發(fā)明專利]激光處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210557358.5 | 申請日： | 2012-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN103406664A | 公開（公告）日： | 2013-11-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 沈亨基;李基雄;羅玉鈞;崔東奎 | 申請（專利權(quán)）人： | AP系統(tǒng)股份有限公司;三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | B23K26/06 | 分類號： | B23K26/06;B23K26/14 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人： | 郝新慧;張浴月 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 激光 處理 裝置 | ||
1.一種激光處理裝置，包括：
激光發(fā)生單元，其照射激光束；
反應(yīng)室，其中容納襯底；
光學(xué)單元，其將從所述激光發(fā)生單元發(fā)射的所述激光束傳遞到所述反應(yīng)室中；以及
阻擋單元，其阻擋從所述激光發(fā)生單元發(fā)射的所述激光束。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光處理裝置，其中，所述阻擋單元包括：殼體，放置在所述激光發(fā)生單元的排出口處并包括入口和出口；第一阻擋部，放置在所述入口與所述出口之間以反射激光束，從而防止所述激光束通過所述出口照射出；以及功率計，用于測量被所述第一阻擋單元反射的所述激光束的強(qiáng)度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光處理裝置，其中，所述第一阻擋單元包括：第一反射板，放置在所述入口與所述出口之間；第一旋轉(zhuǎn)軸，支撐所述第一反射板并被可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述殼體中；以及第一電機(jī)，用以向所述第一旋轉(zhuǎn)軸提供動力。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光處理裝置，其中，所述阻擋單元還包括：第二阻擋部，反射被所述第一阻擋單元反射的所述激光束；以及束流收集器，其補(bǔ)償被所述第二阻擋單元反射的所述激光束。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光處理裝置其中，所述第二阻擋單元包括：第二反射板，放置在所述第一反射板與所述功率計之間；第二旋轉(zhuǎn)軸，支撐所述第二反射板并被可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在所述殼體中；以及第二電機(jī)，用于向所述第二旋轉(zhuǎn)軸提供動力。
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