[發(fā)明專利]一種清洗液及其應(yīng)用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210557287.9
• 申請日: 2012-12-19
• 公開（公告）號: CN103882444A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張建;荊建芬;周文婷;蔡鑫元;王雨春
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C23G1/00
• 分類號: C23G1/00
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務(wù)所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種清洗液，其包括至少一種有機酸，氨羧絡(luò)合劑，至少一種羧酸類聚合物和/或其鹽，以及一種非離子表面活性劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述有機酸的濃度為質(zhì)量百分比0.05～5%，所述氨羧絡(luò)合劑的濃度為質(zhì)量百分比0.005～1%，所述羧酸類聚合物和/或其鹽的濃度為質(zhì)量百分比0.0005～1%，所述非離子表面活性劑的濃度為質(zhì)量百分比0.0005～1%。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗液，其特征在于：所述有機酸的濃度為重量百分比0.1～3%，所述氨羧絡(luò)合劑的濃度為重量百分比0.01～0.5%，所述羧酸類聚合物和/或其鹽的濃度為重量百分比0.001～0.1%，所述非離子表面活性劑的濃度為重量百分比0.001～0.1%。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的有機酸為檸檬酸，蘋果酸，草酸，酒石酸和/或水楊酸。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的氨羧絡(luò)合劑選自乙二胺四乙酸，乙二胺二琥珀酸，乙二醇二乙醚二胺四乙酸，二乙烯三胺五乙酸，羥基乙基乙二胺三乙酸，環(huán)己二胺四乙酸，2，2-雙[二(羧甲基)胺]二乙醚及其鹽中的一種或多種。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清洗液，其特征在于：所述鹽為氨鹽，鉀鹽。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的羧酸類聚合物為丙烯酸類聚合物及其鹽。

8.如權(quán)利要求7所述的清洗液，其特征在于：所述的羧酸類聚合物選自聚丙烯酸，丙烯酸與苯乙烯的共聚物，丙烯酸與順丁烯二酸酐的共聚物和/或丙烯酸與丙烯酸酯的共聚物中的一種或多種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的羧酸類聚合物分子量為1,000～300,000。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清洗液，其特征在于：所述的羧酸類聚合物分子量為1,000～30,000。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的非離子表面活性劑為聚氧乙烯型非離子表面活性劑。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的清洗液，其特征在于：所述的非離子表面活性劑選自烷基聚氧乙烯醚，烷基酚聚氧乙烯醚，脂肪醇聚氧乙烯醚，脂肪酸聚氧乙烯酯，脂肪胺聚氧乙烯醚，脂肪酰胺聚氧乙烯醚及聚氧乙烯/聚氧丙烯共聚物一種或多種。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液pH值小于7。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液pH值為2-5。

15.根據(jù)權(quán)利要求1-14任一項所述的清洗液，其在金屬襯底中的應(yīng)用。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的應(yīng)用，其特征在于：所述的金屬襯底為鋁、銅、鉭、氮化鉭、鈦、氮化鈦、鎢、鎳、鎳-磷、鐵、銀和/或金。

17.根據(jù)權(quán)利要求1-16任一項所述的清洗液，其在清洗機中清洗晶片或在拋光結(jié)束后在拋光盤上清洗晶片中的應(yīng)用。

18.一種非離子表面活性劑在改善晶片表面的親水性及防腐蝕性能中的應(yīng)用。

19.如權(quán)利要求18所述的應(yīng)用，其特征在于：所述的非離子表面活性劑主要為聚氧乙烯型非離子表面活性劑，包括烷基聚氧乙烯醚，烷基酚聚氧乙烯醚，脂肪醇聚氧乙烯醚，脂肪酸聚氧乙烯酯，脂肪胺聚氧乙烯醚，脂肪酰胺聚氧乙烯醚及聚氧乙烯/聚氧丙烯共聚物一種或多種。