[發明專利]齒輪箱墊片用涂油裝置有效
| 申請號: | 201210556590.7 | 申請日: | 2012-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN103123038A | 公開(公告)日: | 2013-05-29 |
| 發明(設計)人: | 王紅紅 | 申請(專利權)人: | 蘇州菱歐自動化設備有限公司 |
| 主分類號: | F16N7/38 | 分類號: | F16N7/38 |
| 代理公司: | 蘇州銘浩知識產權代理事務所(普通合伙) 32246 | 代理人: | 張一鳴 |
| 地址: | 215124 江蘇省蘇州市吳中區郭*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 齒輪箱 墊片 涂油 裝置 | ||
技術領域
本發明屬于機械加工設備領域,涉及一種齒輪箱墊片用涂油裝置。?
背景技術
隨著人們消費水平越來越高,對汽車的舒適度也有了更好的要求。通常,汽車座椅均安裝了便于座椅調節的座椅馬達。上述座椅馬達主要由機殼、軸承端蓋、鐵芯和齒輪箱端蓋等組成。齒輪箱中安裝設有齒輪軸,在裝入齒輪軸之前,需要在齒輪箱內放置墊片。為了便于齒輪軸及齒輪箱在裝配使用時有足夠的潤滑,一般在裝配前,需要在齒輪箱內部表面、齒輪軸的外表面上及墊片的外表面上涂布一些潤滑油。?
通常,墊片的外表面上涂布潤滑油,一般是由操作工人手工一個一個分別涂油完成。上述操作方式,不僅生產效率低,且墊片表面也會因為操作人員的手工操作,出現涂布不均勻的現象,從而影響最后裝配、使用時的潤滑效果。?
因此,如何解決上述問題,是本發明要研究的內容。?
發明內容
本發明提供一種齒輪箱墊片用涂油裝置,其目的主要是解決現有技術中,齒輪箱墊片采用人工操作涂油,生產效率低,且容易出現涂布不均勻的現象。?
為達到上述目的,本發明采用的技術方案是:一種齒輪箱墊片用涂油裝置,包括機架、送料機構、位移平臺及涂油機構;所述機架上設有工作臺;?
所述送料機構設置在所述工作臺前側上,該送料機構包括具有出料口震動盤、與該出料口連接的送料槽、位于送料槽遠離震動盤出料口一側上方的真空抓取結構;
所述位移平臺包括正弦機構及托料板;所述正弦機構設置在工作臺上,所述托料板的底部設在所述正弦機構上,并由正弦機構驅動所述托料板在水平面內作X、Y方向運動;
所述涂油機構設置在所述工作臺的后側上,該涂油機構包括注油泵、與注油泵連接并位于托料板上方的注油頭;所述注油頭朝向托料板上的墊片容置位設置。
上述技術方案中的有關內容解釋如下:?
1、上述方案中,所述真空抓取機構包括對應托料板設置的真空吸嘴及設置在機架上工作臺底部的真空發生器。
2、上述方案中,所述托料板上設有縱橫交錯設置的墊片容置位。?
3、上述方案中,所述正弦機構包括第一運動機構和第二運動機構,所述第一運動機構與托料板連接作水平面內X方向往復直線運動;所述第二運動機構與工作臺固定連接作水平面內Y方向往復直線運動。?
由于上述技術方案運用,本發明與現有技術相比具有下列優點:?
由于本發明結構簡單、實用,制造成本低,位移精度高,且操作簡單、平穩,便于操作人員操作;且該裝置保證了墊片表面潤滑油涂布均勻,確保產品裝配后、使用時的潤滑效果。
附圖說明
附圖1為本發明立體結構示意圖;?
附圖2為本發明主視結構示意圖。
以上附圖中:1、機架;12、真空發生器;2、工作臺;3、震動盤;4、送料槽;5、托料板;?6、注油泵;7、注油頭;8、墊片容置位;9、正弦機構;10、真空吸嘴;12、真空發生器。???
具體實施方式
下面結合附圖及實施例對本發明作進一步描述:?
實施例:
如圖1~2示,一種齒輪箱墊片用涂油裝置,包括機架1、送料機構、位移平臺及涂油機構;所述機架1上設有工作臺2;
所述送料機構設置在所述工作臺2前側上,該送料機構包括具有出料口震動盤3、與該出料口連接的送料槽4、位于送料槽4遠離震動盤3出料口一側上方的真空抓取結構;
所述位移平臺包括正弦機構9及托料板5;所述正弦機構9設置在工作臺2上,所述托料板5的底部設在所述正弦機構9上,并由正弦機構9驅動所述托料板5在水平面內作X、Y方向運動;
所述涂油機構設置在所述工作臺2的后側上,該涂油機構包括注油泵6、與注油泵6連接并位于托料板5上方的注油頭7;所述注油頭7朝向托料板5上的墊片容置位8設置。
所述真空抓取機構包括對應托料板5設置的真空吸嘴10及設置在機架1上工作臺2底部的真空發生器12。?
所述托料板5上設有縱橫交錯設置的墊片容置位8。?
所述正弦機構9包括第一運動機構和第二運動機構,所述第一運動機構與托料板5連接作水平面內X方向往復直線運動;所述第二運動機構與工作臺2固定連接作水平面內Y方向往復直線運動。?
上述實施例只為說明本發明的技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本發明的內容并據以實施,并不能以此限制本發明的保護范圍。凡根據本發明精神實質所作的等效變化或修飾,都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。?
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