[發(fā)明專利]一種均分散類水滑石納米單片的制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210556149.9 | 申請日: | 2012-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN103011254A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 侯萬國;龐秀江;孫美玉 | 申請(專利權(quán))人: | 青島科技大學 |
| 主分類號: | C01G5/00 | 分類號: | C01G5/00;C01G9/00;C01G53/00;C01G49/00;C01F7/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 青島高曉專利事務所 37104 | 代理人: | 張世功 |
| 地址: | 266061 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 均分 散類水 滑石 納米 單片 制備 方法 | ||
1.一種均分散類水滑石納米單片的制備方法,其特征在于利用微通道反應器在水溶液中制備出粒徑分布均勻的表面無有機物質(zhì)吸附的類水滑石納米單片,其具體工藝步驟為:
(1)、將可溶性二價無機鹽M2+Y和三價無機鹽M3+Y按M2+:M3+摩爾比為2-4:1的比例混合并溶解在去離子水中配置成鹽溶液,其中,金屬離子總濃度為0.01-1mol/l;M2+包括離子Mg2+、Co2+、Ni2+、Fe2+、Mn2+、Zn2+、Ca2+、Cu2+和Cd2+中的一種或兩種,M3+包括離子Al3+、Fe3+、Ni3+、Co3+、Mn3+、Cr3+、V3+、Ti3+、In3+和Ga3+中的一種或兩種,Y包括F-、Cl-、Br-、I-、NO3-、HCO3-、ClO3-、IO3-、H2PO4-、SO32-、S2O32-、HPO42-、WO42-、CrO42-和PO43-中的一種或兩種;
(2)、采用常規(guī)技術(shù)配制堿溶液,堿溶液為氫氧化鈉、氫氧化鉀和氨水中的一種或兩種,堿溶液的濃度為0.1-1mol/l;
(3)、利用T形或Y形微通道反應器使鹽溶液和堿溶液充分混合并反應,得到類水滑石(LDHs)沉淀物;反應溫度為25-80°C,鹽溶液和堿溶液的流速為10-30ml/min;
(4)、將制備好的類水滑石(LDHs)沉淀物用去離子水充分洗滌,轉(zhuǎn)速為12000r/min離心后得到包含有單層納米片的膠狀物,即為均分散類水滑石納米單片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均分散類水滑石納米單片的制備方法,其特征在于使用的微通道反應器為T形或Y形;微通道的寬度為0.2-1mm,深度為0.2-1mm,長度為5-50mm。
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