[發(fā)明專利]一種氣體分析儀樣氣室裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210555529.0
• 申請(qǐng)日: 2012-12-19
• 公開（公告）號(hào): CN103884655A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韓敏艷;駱德全;郁良;周欣
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京大方科技有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G01N21/15
• 分類號(hào): G01N21/15
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 魏曉波

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及氣體分析技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種氣體分析儀樣氣室裝置。

背景技術(shù)

在煤礦、石油化工、冶金和環(huán)保等行業(yè)，隨著人們對(duì)氣體檢測(cè)的要求越來越高，測(cè)量技術(shù)與設(shè)備越來越受到人們的重視。近些年來，光學(xué)測(cè)量技術(shù)特別是可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)得到了迅猛的發(fā)展，已經(jīng)在眾多行業(yè)中成功應(yīng)用。但是，由于工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)中的測(cè)量環(huán)境通常比較惡劣，使用一段時(shí)間后，分析儀內(nèi)部的光學(xué)部件容易受到污染，嚴(yán)重影響測(cè)量的精度和分析儀的使用性能。目前，傳統(tǒng)的維護(hù)方式是將分析儀發(fā)回生產(chǎn)廠家，由生產(chǎn)廠家進(jìn)行光學(xué)器件的清理和維護(hù)，但是，這種維護(hù)方式需要的周期較長，影響使用者的正常工作。鑒于上述問題，一些公司開發(fā)了結(jié)構(gòu)簡單的樣氣室，其可以在現(xiàn)場(chǎng)拆開，對(duì)光學(xué)器件進(jìn)行清理。但是，完成清理后，將光學(xué)器件安裝回去后，還需要進(jìn)行光路的重新調(diào)節(jié)，因此，這種方式僅局限于光路簡單的樣氣室，例如，光路發(fā)射端與接收端為對(duì)射或單次反射的情況，而對(duì)于光路復(fù)雜的情況，則無法實(shí)現(xiàn)正常維護(hù)。

因此，如何提供一種氣體分析儀樣氣室裝置，以便于使用者對(duì)樣氣室進(jìn)行維護(hù)，是本領(lǐng)域技術(shù)人員目前需要解決的技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種氣體分析儀樣氣室裝置，以便于使用者對(duì)樣氣室進(jìn)行維護(hù)。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種氣體分析儀樣氣室裝置，包括具有光學(xué)器件的樣氣室管，其還包括開設(shè)在所述樣氣室管上的維護(hù)窗口和用于密封所述維護(hù)窗口的可拆卸的密封板。

優(yōu)選地，上述的裝置中，所述維護(hù)窗口為兩個(gè)，且分布在所述樣氣室管的兩端。

優(yōu)選地，上述的裝置中，所述維護(hù)窗口為矩形。

優(yōu)選地，上述的裝置中，所述密封板為可透視的密封板。

優(yōu)選地，上述的裝置中，還包括設(shè)置在所述密封板和所述維護(hù)窗口之間的密封件。

優(yōu)選地，上述的裝置中，所述密封件為密封墊。

優(yōu)選地，上述的裝置中，所述密封板與所述樣氣室管通過緊固件相連。

從上述的技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明提供了一種氣體分析儀樣氣室裝置，包括具有光學(xué)器件的樣氣室管，還包括開設(shè)在樣氣室管上的維護(hù)窗口和用于密封該維護(hù)窗口的可拆卸的密封板。應(yīng)用本實(shí)施例提供的氣體分析儀樣氣室裝置，當(dāng)其內(nèi)部的光學(xué)器件被污染時(shí)，可通過拆卸密封板使得維護(hù)窗口打開，操作者通過維護(hù)窗口對(duì)光學(xué)器件進(jìn)行清理。該裝置避免使用將其整個(gè)拆卸開的清理方式，因此可有效減少清理時(shí)間，且便于操作者的維護(hù)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的氣體分析儀樣氣室裝置的剖視圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的氣體分析儀樣氣室裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的氣體分析儀樣氣室裝置外部爆炸圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的原位式氣體分析儀樣氣室裝置的剖視圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的單次反射氣體分析儀樣氣室裝置的剖視圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的單次反射氣體分析儀樣氣室裝置的另一種結(jié)構(gòu)的剖視圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的多次反射氣體分析儀樣氣室裝置的剖視圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種形狀的維護(hù)窗口的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明核心是提供一種氣體分析儀樣氣室裝置，以便于使用者對(duì)樣氣室進(jìn)行維護(hù)。

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案，下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。

請(qǐng)參考圖1-圖3所示，本發(fā)明公開了一種氣體分析儀樣氣室裝置，包括具有光學(xué)器件的樣氣室管2，還包括開設(shè)在樣氣室管2上的維護(hù)窗口（圖中未標(biāo)出）和用于密封該維護(hù)窗口的可拆卸的密封板1。

應(yīng)用本實(shí)施例提供的氣體分析儀樣氣室裝置，當(dāng)其內(nèi)部的光學(xué)器件被污染時(shí)，可通過拆卸密封板1使得維護(hù)窗口打開，操作者通過維護(hù)窗口對(duì)光學(xué)器件進(jìn)行清理。該裝置避免使用將其整個(gè)拆卸開的清理方式，因此可有效減少清理時(shí)間，且便于操作者的維護(hù)。

具體的實(shí)施例中，將維護(hù)窗口設(shè)置為兩個(gè)，且分布在樣氣室管2的兩端。在實(shí)際生產(chǎn)情況下，由于氣體分析儀的光學(xué)發(fā)射端6和光學(xué)接收端4的布置方式可為對(duì)射安裝方式，即兩者分布在樣氣室管2的兩側(cè)，并通過設(shè)置在樣氣室兩側(cè)的第一光學(xué)窗口5將光束射入到樣氣室內(nèi)，通過第二光學(xué)窗口3將光束射出樣氣室，因此，為了能夠?qū)蓚?cè)的光學(xué)器件都實(shí)現(xiàn)清理，優(yōu)選地實(shí)施例中，設(shè)置了兩個(gè)維護(hù)窗口。操作者可根據(jù)實(shí)際情況，對(duì)不同的光學(xué)器件進(jìn)行維護(hù)。