[發明專利]顯示設備及其制造方法有效
| 申請號: | 201210554972.6 | 申請日: | 2012-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN103178082A | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發明(設計)人: | 李東澔;黃淳載 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國;鐘強 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 設備 及其 制造 方法 | ||
1.一種顯示設備,包括:
基板;
設置在基板上的柵極金屬線;
配置成絕緣所述柵極金屬線的柵極絕緣膜;
設置在柵極絕緣膜上的數據金屬線;和
設置于柵極金屬線和數據金屬線之間位于柵極金屬線和數據金屬線彼此重疊的區域處的保護膜。
2.如權利要求1所述的顯示設備,其中所述柵極金屬線是水平電源線,所述數據金屬線是垂直電源線。
3.如權利要求2所述的顯示設備,還包括:
設置在柵極絕緣膜上的半導體層;和
設置在半導體層上的蝕刻停止層,其中所述保護膜由與蝕刻停止層相同的材料形成。
4.如權利要求1所述的顯示設備,其中所述柵極金屬線是柵極,所述數據金屬線是源極和漏極。
5.如權利要求1所述的顯示設備,其中所述保護膜設置在柵極絕緣膜和柵極金屬線之間。
6.如權利要求1所述的顯示設備,其中所述柵極金屬線是柵極線,所述數據金屬線是數據線和公共電源線。
7.如權利要求1所述的顯示設備,還包括設置在基板上的電容器,其中所述保護膜設置在除了所述電容器之外的區域。
8.一種顯示設備,包括:
基板;
設置在基板上的柵極金屬線;
配置成絕緣所述柵極金屬線的柵極絕緣膜;
設置在柵極絕緣膜上的數據金屬線;
設置在數據金屬線上的鈍化膜;
設置在鈍化膜上的像素電極;和
設置在數據金屬線和像素電極之間位于數據金屬線和像素電極彼此重疊的區域處的保護膜。
9.如權利要求8所述的顯示設備,其中所述數據金屬線是數據線和公共電源線。
10.如權利要求9所述的顯示設備,其中所述保護膜設置在鈍化膜和數據金屬線之間。
11.如權利要求8所述的顯示設備,還包括設置在基板上的電容器,其中所述保護膜設置在除了所述電容器之外的區域。
12.一種制造顯示設備的方法,所述方法包括:
在基板上形成柵極金屬線;
在柵極金屬線上形成保護膜;
在保護膜上形成柵極絕緣膜;和
在柵極絕緣膜上形成數據金屬線,其中所述保護膜形成在柵極金屬線和數據金屬線彼此重疊的區域處。
13.如權利要求12所述的方法,其中所述柵極金屬線被形成為水平電源線,所述數據金屬線被形成為垂直電源線。
14.如權利要求13所述的方法,還包括:
在柵極絕緣膜上形成半導體層;和
通過在半導體層上沉積無機材料和圖案化所述無機材料,形成蝕刻停止層和保護膜。
15.如權利要求12所述的方法,其中所述柵極金屬線被形成為柵極,所述數據金屬線被形成為源極和漏極。
16.如權利要求12所述的方法,其中所述柵極金屬線被形成為柵極線,所述數據金屬線被形成為數據線和公共電源線。
17.如權利要求12所述的方法,還包括:
在數據金屬線上形成鈍化膜;和
在鈍化膜上形成像素電極,其中所述保護膜形成在數據金屬線和像素電極彼此重疊的區域。
18.如權利要求12所述的方法,其中進一步將電容器形成在基板上,其中所述保護膜形成在除了所述電容器之外的區域。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





