[發明專利]結構光照明層析顯微成像系統有效
| 申請號： | 201210553557.9 | 申請日： | 2012-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN103018173A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發明（設計）人： | 鄭煒;楊守勝 | 申請（專利權）人： | 中國科學院深圳先進技術研究院 |
| 主分類號： | G01N21/17 | 分類號： | G01N21/17;G01N21/45 |
| 代理公司： | 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 宋鷹武 |
| 地址： | 518055 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 結構 照明 層析 顯微 成像 系統 | ||
1.一種結構光照明層析顯微成像系統，用于樣品層析成像，其特征在于，包括：
結構光照明裝置，包括第一結構光裝置、第二結構光裝置、第三結構光裝置、對應第一、第二結構光裝置設置的第一分光鏡、對應第三結構光裝置和第一分光鏡設置的第二分光鏡以及對應第二分光鏡設置的第一透鏡，結構光由第一透鏡出射，所述結構光裝置均包括依次設置的光源、光束準直器和格柵；
成像裝置，依次包括第二透鏡、分光模塊以及成像模塊；
以及設置于結構光照明裝置與成像裝置的光路之間可將產生的結構光投影到樣品的半透半反鏡和顯微物鏡；
所述結構光經半透半反鏡、顯微物鏡投影到樣品，樣品反射光經顯微物鏡、半透半反鏡由成像裝置接收，成像裝置的分光模塊將樣品反射光分為三束，由成像模塊接收。
2.根據權利要求1所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述結構光照明裝置包括三個光源，分別對應設置在第一結構光裝置、第二結構光裝置以及第三結構光裝置中。
3.根據權利要求2所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述各結構光裝置的光源為中心波長相近但光譜互不重疊的窄帶光源。
4.根據權利要求3所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述窄帶光源為窄帶LED或激光器或白光源和帶通濾光片的組合。
5.根據權利要求1所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述各結構光裝置的格柵的線狀條紋密度相同。
6.根據權利要求1所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述成像模塊設有三個不同的感光區域，三束樣品反射光對應不同的感光區域。
7.根據權利要求1所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述成像模塊為CCD或CMOS。
8.根據權利要求1所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述光源采用激光器時，分光模塊為三角棱鏡或光柵。
9.根據權利要求1所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述光源采用窄帶LED或白光源和帶通濾光片的組合時，分光模塊為分光鏡組。
10.根據權利要求1所述的結構光照明層析顯微成像系統，其特征在于：所述系統還包括升降臺，用于承載及移動樣品。
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