[發明專利]一種用于金屬拋光后的清洗液及其使用方法

在審

• 申請號: 201210553548.X
• 申請日: 2012-12-19
• 公開（公告）號: CN103882443A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 荊建芬;周文婷;張建;蔡鑫元;王雨春
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C23G1/00
• 分類號: C23G1/00
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種用于金屬基板拋光后的清洗液，其包括至少一種有機酸，一種有機膦酸，一種羧酸類聚合物和/或其鹽。

2.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的有機酸為檸檬酸，蘋果酸，草酸，酒石酸，水楊酸中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的有機酸濃度為質量百分比0.05～5%。

4.根據權利要求3所述的清洗液，其特征在于，所述的有機酸濃度為質量百分比0.1~3%。

5.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的有機膦酸選自氨基三亞甲基膦酸、羥基亞乙基二膦酸、乙二胺四亞甲基膦酸、二乙烯三胺五亞甲基膦酸、2-膦酸丁烷-1，2，4三羧酸、雙1，6-亞己基三胺五亞甲基膦酸和羥基膦酰基乙酸、有機膦磺酸及其鹽中的一種或多種。

6.根據權利要求5所述的清洗液，其特征在于，所述的有機膦酸的鹽類為氨鹽或鉀鹽。

7.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的有機膦酸濃度為質量百分比0.005～1%。

8.根據權利要求7所述的清洗液，其特征在于，所述的有機膦酸的濃度為質量百分比0.01~0.5%。

9.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的羧酸類聚合物為丙烯酸類聚合物及其鹽。

10.根據權利要求9所述的清洗液，其特征在于，所述的羧酸類聚合物為聚丙烯酸，丙烯酸與苯乙烯的共聚物，丙烯酸與順丁烯二酸酐的共聚物，丙烯酸與丙烯酸酯的共聚物中的一種或多種。

11.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的羧酸類聚合物和/或其鹽分子量在1,000～300,000。

12.根據權利要求11所述的清洗液，其特征在于，所述的羧酸類聚合物和/或其鹽分子量在1,000~30,000。

13.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的羧酸類聚合物和/或其鹽的濃度為質量百分比0.0005～1%。

14.根據權利要求13所述的清洗液，其特征在于，所述的羧酸類聚合物和/或其鹽的濃度為質量百分比0.001～0.1%。

15.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液還包含一種非離子表面活性劑。

16.根據權利要求15所述的清洗液，其特征在于，所述的非離子表面活性劑為聚氧乙烯型非離子表面活性劑。

17.根據權利要求16所述的清洗液，其特征在于，所述的非離子表面活性劑選自烷基聚氧乙烯醚，烷基酚聚氧乙烯醚，脂肪醇聚氧乙烯醚，脂肪酸聚氧乙烯酯，脂肪胺聚氧乙烯醚，脂肪酰胺聚氧乙烯醚及聚氧乙烯/聚氧丙烯共聚物的一種或多種。

18.根據權利要求17所述的清洗液，其特征在于，所述非離子表面活性劑濃度為質量百分比0.0005～1%。

19.根據權利要求18所述的清洗液，其特征在于，所述非離子表面活性劑濃度為優選為質量百分比0.001%~0.1%。

20.根據權利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液pH值小于7。

21.根據權利要求20所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液pH值為1~3。

22.根據權利要求1-21任一項所述的清洗液在金屬襯底中的應用。

23.根據權利要求22所述的應用，其特征在于，所述的金屬襯底為鋁、銅、鉭、氮化鉭、鈦、氮化鈦、鎢、鎳、鎳-磷、鐵、銀、金其組合及其組合。

24.根據權利要求1所述的清洗液在清洗機中清洗晶片或在拋光結束后在拋光盤上清洗晶片中的應用。