[發明專利]PECVD裝置、使用其制備不規則表面膜的方法及其應用

有效

• 申請號: 201210552273.8
• 申請日: 2012-12-18
• 公開（公告）號: CN103866290B
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 施嘉諾;曹喆婷
• 申請（專利權）人: 上海品吉技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/50
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 徐申民;杜娟

1.一種用于制備不規則表面膜的等離子體增強化學氣相沉積裝置，包括：

氣體供應部件；

等離子體激發產生部件，其包括等離子體發生腔體和等離子體激發部件，所述等離子體發生腔體內限定有等離子體發生腔室，所述等離子體激發部件的激發源為射頻激發源；

氣體導管；以及

真空系統，其包括真空部件和用于密封樣品的頂部開口的密封部件，所述真空部件經插入密封部件的真空管道使樣品內保持真空；其中，

所述氣體供應部件中的工藝氣體被導入到所述等離子體發生腔室中；以及

所述氣體導管經所述密封部件被插入到樣品中以將所述等離子體發生腔室內等離子激發的工藝氣體導入到樣品中，并且所述氣體導管的形狀根據樣品的形狀被設置成適于使等離子激發的工藝氣體與樣品內壁充分接觸。

2.如權利要求1所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述樣品為多個，以及等離子激發的工藝氣體經由所述氣體導管通過氣體分布器被導入到各個樣品中。

3.一種用于制備不規則表面膜的等離子體增強化學氣相沉積裝置，包括：

氣體供應部件；

等離子體激發產生部件，其包括等離子體發生腔體和等離子體激發部件，所述等離子體發生腔體內限定有等離子體發生腔室，所述等離子體激發部件的激發源為射頻激發源；

氣體導管；

其內限定有反應腔室的反應腔體；以及

真空部件，用于使所述反應腔室保持真空；其中，

所述氣體供應部件中的工藝氣體被導入到所述等離子體發生腔室中；以及

所述氣體導管被插入到放置于所述反應腔室內的樣品中以將所述等離子體發生腔室內等離子激發的工藝氣體導入到樣品中，并且所述氣體導管的形狀根據樣品的形狀被設置成適于使等離子激發的工藝氣體與樣品內壁充分接觸。

4.如權利要求3所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述樣品為多個，以及等離子激發的工藝氣體經由所述氣體導管通過氣體分布器被導入到各個樣品中。

5.如權利要求1-4中任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述樣品為各種頂部開口的容器。

6.如權利要求1-4中任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述等離子體增強化學氣相沉積裝置還包括加熱裝置，用于調節所述樣品內的溫度。

7.如權利要求1-4中任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述等離子體發生腔室沿其長度方向被導電分隔體分割為多個內有開口的分隔部分，其中工藝氣體流經各個分隔部分；以及所述等離子體激發部件通過導電分隔體分別為各個分隔部分提供用以等離子激發工藝氣體所需的電場。

8.如權利要求7所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述分隔部分的長度為2.875英寸。

9.如權利要求1-8中任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置的應用，用于制備不規則表面膜。

10.如權利要求9所述的應用，其特征在于，所述不規則表面膜包括用于醫療用品容器、食品容器、輸油管道內壁、晶體硅太陽能電池的雙層減反射層、大規模集成電路絕緣層的不規則表面膜。

11.一種制備不規則表面膜的方法，其包括：首先將氣體供應部件中的工藝氣體導入到使用射頻激發源的等離子體發生腔室內，使工藝氣體在等離子體發生腔室內被等離子激發；然后經由插入到樣品中的氣體導管將等離子激發的工藝氣體導入到樣品中并在樣品上沉積，其中所述樣品處于真空環境中并具有不規則表面。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于，所述樣品的頂部開口用真空塞密封，所述真空塞上有用于導入等離子激發的工藝氣體的氣體導管和用于抽真空的真空管道。