[發明專利]一種基于紫外光的干式清洗方法有效
| 申請號: | 201210550263.0 | 申請日: | 2012-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN103008311A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發明(設計)人: | 任乃飛;劉丹;吳迪富;任旭東;葛小兵;孫玉娟;孫兵 | 申請(專利權)人: | 江蘇宇迪光學股份有限公司;江蘇大學 |
| 主分類號: | B08B11/04 | 分類號: | B08B11/04 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人: | 汪旭東 |
| 地址: | 226404 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 紫外光 清洗 方法 | ||
1.一種基于紫外光的干式清洗方法,其特征在于:先利用超聲波清洗、高壓水噴淋濕式洗凈方法除去玻璃基板表面的附著粒子;再對其進行基于紫外光的干式清洗;具體包括以下步驟:
(A)超聲波清洗,將待清洗的TFT-LCD玻璃基板經輸入傳送機傳送到超聲波清洗裝置內,當玻璃基板從清洗槽中通過并在清洗液中浸泡時,玻璃基板上下表面同時被清洗;
(B)高壓水噴淋,使玻璃基板通過高壓水噴淋裝置,利用高壓水泵把清洗用水加壓到0.5MPa-1.5MPa,再通過噴嘴把高壓低流速的水轉化成低壓高流速的水噴射到玻璃基板表面進行清洗;
(C)氣刀吹干,利用從夾縫中吹出的高速氣體將玻璃基板表面的水分清除掉;?
(D)紅外烘干,采用紅外干燥法對TFT-LCD玻璃基板進行二次干燥,紅外線照射玻璃基板,將氣刀干燥時沒有完全除去的殘留水分徹底清除;
(E)冷卻,采用緩沖收納裝置對玻璃基板進行冷卻;
(F)基于紫外光干式清洗,清洗時使基板位于低壓水銀燈的下方,低壓水銀燈產生253.7nm和184.9nm波長的紫外線同時照射玻璃基板;首先,在184.9nm的紫外線作用下將空氣中的游離氧元素生成臭氧;然后,在253.7nm的紫外線作用下將空氣中的臭氧分解生成游離的氧原子,與此同時,有機污染物在紫外線的作用下分解,分解的游離態原子與紫外線照射生成的氧原子結合,形成易揮發的CO2、H2O、O2小分子化合物。
2.根據權利要求1所述的一種基于紫外光的干式清洗方法,其特征在于:是不是修改為:所述步驟(F)中,低壓水銀燈替換為受激準分子紫外燈(Excimer),其產生紫外線的波長為172nm、照射時間保持在18—22秒,反應腔室排氣壓力是0.08?KPa—0.12KPa。
3.根據權利要求1或2所述的一種基于紫外光的干式清洗方法,其特征在于:所述步驟(C)中,氣刀的氣體吐出口與玻璃基板表面之間距離在3—6mm,氣刀的吐出壓力設置為0.08MPa—0.12MPa,吐出氣體溫度為45℃—55℃,氣刀與玻璃基板搬送方向的角度設置為18℃—22℃。
4.根據權利要求1或2所述的一種基于紫外光的干式清洗方法,其特征在于:所述步驟(A)中,超聲波頻率控制在28KHz—40KHz,搬運速度為3m/min,?清洗液流量為30L/min。
5.根據權利要求1或2所述的一種基于紫外光的干式清洗方法,其特征在于:所述步驟(A)的清洗液和所述步驟(B)的清洗用水為純水。
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