[發明專利]一種印花平面調整裝置

有效

• 申請號: 201210549324.1
• 申請日: 2012-12-18
• 公開（公告）號: CN103057258A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 歐陽文貽
• 申請（專利權）人: 蘇州展華紡織有限公司
• 主分類號: B41F17/38
• 分類號: B41F17/38
• 代理公司: 常州市維益專利事務所 32211
• 代理人: 王凌霄

技術領域

?本發明涉及印花機械設備領域，特別地，是一種布料印花平面的調整裝置。

背景技術

將染料或涂料在織物上印制圖案的方法有很多種包括（1）直接印花：將各種顏色的花形圖案直接印制在織物上的方法即為直接印花，在印制過程中，各種顏色的色漿不發生阻礙和破壞作用。印花織物中大約有80%－90%采用此法。?該法可印制白地花和滿地花圖案。（2）拔染印花：染有地色的織物用含有可以破壞地色的化學品的色槳印花，這類化學品稱為拔染劑。拔染槳中也可以加入對化學品有抵抗力的染料。如此拔染印花可以得到兩種效果，即拔白和色拔。（3）防染印花：先在織物上印制能防止染料上染的防染劑，然后軋染地色，印有花紋處可防止地色上染，該種方法即為防染印花，該法可得到三種效果，即防白、色防和部分防染。（4）數碼印花。

以上種種印花技術都需要將衣物需印花的區域平整的鋪設在印花平臺上，由于衣物折疊或者前期未整燙處理完成，印花時，即使將其平鋪，其內部紋理或各印花區域的厚薄也不整齊，造成印花效果差，產生印花次品。

發明內容

為了解決上述問題，本發明的目的在于提供一種印花平面調整裝置，該印花平面調整裝置能夠使衣物的印花區域均勻的進行印花。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：

該印花平面調整裝置包括矩形的印花平臺，所述印花平臺由透明材料制成，所述印花平臺的四邊上設置有布料調整夾具，所述印花平臺的上部及下部均設置有與其平行的第一菲涅爾透鏡、第二菲涅爾透鏡，所述第一菲涅爾透鏡中心的上方設置有成像器件，所述第二菲涅爾透鏡中心的下方設置有光源，所述成像器件與一圖像處理邏輯模塊建立數據連接，圖像處理邏輯模塊根據所述成像器件的圖像進行圖像處理后，得到需要印花衣物的明暗分布圖，根據所述明暗分布圖調整所述條形布料夾具的位置，達到使布料分布均勻的目的。

作為優選，所述光源為紅外線光源，所述成像器件為，紅外成像器件。

作為優選，所述布料調整夾具具體為：所述矩形印花平臺的四邊上均垂直設置有兩根相互平行的滑桿，所述每對相互平行的滑桿上均設置有與所述滑桿相垂直的條形布料夾具，所述夾具由兩塊平板條鉸接而成。

作為優選，所述條形布料夾具的長度在對應的矩形印花平臺的邊長度的1~1.2倍。

本發明的優點在于：

利用所述成像器件與光源的配合，使用光線穿透布料的方式檢測布料內部的均勻性，通過檢測到的對比圖可以相應的調整布料需印花區域的材料均勻度，使印花效果較佳。

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附圖說明

圖1是本印花平面調整裝置印花平臺的立體結構示意圖；

圖2是本印花平面調整裝置的正視剖切結構示意圖。

圖中：100、印花平臺；110、滑桿；200、夾具；400、光源；510、第二菲涅爾透鏡；520、第一菲涅爾透鏡；600、成像器件。

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具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明：

在本實施例中，參閱圖1和圖2，該印花平面調整裝置包括矩形的印花平臺100，所述印花平臺100由透明材料制成，所述印花平臺100的四邊上設置有布料調整夾具，所述印花平臺100的上部及下部均設置有與其平行的第一菲涅爾透鏡520、第二菲涅爾透鏡510，所述第一菲涅爾透鏡520中心的上方設置有成像器件600，所述第二菲涅爾透鏡510中心的下方設置有光源400，所述成像器件600與一圖像處理邏輯模塊（未圖示）建立數據連接，圖像處理邏輯模塊根據所述成像器件600的圖像進行圖像處理后，得到需要印花衣物的明暗分布圖，根據所述明暗分布圖調整所述布料調整夾具的位置，達到使布料分布均勻的目的。

所述圖像處理為已知的圖像二值化處理。

上述的印花平面調整裝置，所述光源400為紅外線光源，所述成像器件600為紅外成像器件。

紅外線相對于可見光更容易穿透布料，使整個裝置適合任意厚度布料的檢測。

參閱圖1，所述布料調整夾具具體為：所述矩形的印花平臺100的四邊上均垂直設置有兩根相互平行的滑桿110，所述每對相互平行的滑桿110上均設置有與所述滑桿110相垂直的條形布料夾具200，所述夾具200由兩塊平板條鉸接而成。

上述的印花平面調整裝置，所述條形布料夾具200的長度在對應的矩形印花平臺100的邊長度的1~1.2倍，用于保證需印花的衣物能夠完全被所述條形布料夾具200所夾持。

上述的印花平面調整裝置的工作原理：