[發明專利]對稱等離子體處理室

有效

• 申請號: 201210548948.1
• 申請日: 2012-10-08
• 公開（公告）號: CN103094045B
• 公開（公告）日: 2018-01-26
• 發明（設計）人: 詹姆斯·D·卡達希;哈密迪·塔瓦索里;阿吉特·巴拉克利斯納;陳智剛;安德魯·源;道格拉斯·A·小布什伯格;卡爾蒂克·賈亞拉曼;沙希德·勞夫;肯尼思·S·柯林斯
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 張欣

1.一種等離子體處理設備，包括：

蓋組件和室體，其圍成處理區域；以及

襯底支撐組件，其設置在所述室體中，其中，所述蓋組件包括：

上電極；

耦合到所述上電極的非導電流體入口管和非導電流體出口管；

多個導電配件，其中一個所述導電配件耦合到所述非導電流體入口管，且另一個所述導電配件耦合到所述非導電流體出口管；以及

多個導電塞，其耦合到上電極，其中，所述導電配件和所述導電塞圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱布置。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，其中，所述導電塞和所述導電配件由相同材料構成。

3.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，其中，所述導電塞具有與所述導電配件相同的尺寸和形狀。

4.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，其中，所述導電塞和所述導電配件一同限定了以所述襯底支撐組件的中心軸線為中心的環形陣列。

5.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，其中，所述上電極包括噴頭板和傳熱板。

6.根據權利要求5所述的等離子體處理設備，其中，所述傳熱板具有布置在其中的多個流體通道，所述多個流體通道與所述流體入口管和所述流體出口管流體連通。

7.根據權利要求5所述的等離子體處理設備，其中，所述噴頭板具有構造成將處理氣體分配到所述處理區域中的中心歧管和構造成將處理氣體分配到所述處理區域中的一個或者多個外部歧管。

8.根據權利要求7所述的等離子體處理設備，其中，所述蓋組件還包括環形歧管，其經由多個氣體管耦合到所述一個或者多個外部歧管，所述氣體管圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱地布置。

9.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，還包括：

第一致動裝置，其耦合到所述襯底支撐組件并且構造成豎直移動所述襯底支撐組件；以及

第二致動裝置，其耦合到所述襯底支撐組件并且構造成移動設置在所述襯底支撐組件內的多個襯底支撐銷。

10.一種用于等離子體處理設備的蓋組件，包括：

上電極；

耦合到所述上電極的非導電流體入口管和非導電流體出口管；

多個導電配件，其中一個所述導電配件耦合到所述非導電流體入口管，且另一個所述導電配件耦合到所述非導電流體出口管中；以及

多個導電塞，其耦合到上電極，其中，所述導電配件和所述導電塞圍繞所述上電極的中心軸線對稱布置。

11.根據權利要求10所述的蓋組件，其中，所述上電極包括噴頭板和傳熱板，并且其中，所述傳熱板具有布置在其中的多個流體通道，所述多個流體通道與所述流體入口管和所述流體出口管流體連通。

12.根據權利要求10所述的蓋組件，其中，所述導電塞和所述導電配件由相同材料構成。

13.根據權利要求10所述的蓋組件，其中，所述導電塞具有與所述導電配件相同的尺寸和形狀。

14.根據權利要求10所述的蓋組件，其中，所述導電塞和所述導電配件一同限定了以所述上電極的中心軸線為中心的環形陣列。

15.一種等離子體處理設備，包括：

蓋組件和室體，其圍成處理區域；

襯底支撐組件，其設置在所述室體中，其中，所述蓋組件包括：

上電極；

耦合到所述上電極的非導電流體入口管和非導電流體出口管；

多個導電配件，其中一個所述導電配件耦合到所述非導電流體入口管，且另一個所述導電配件耦合到所述非導電流體出口管；以及

多個導電塞，其耦合到上電極，其中，所述導電配件和所述導電塞圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱布置；以及

排氣組件，其與所述室體限定抽真空區域，其中，所述室體包括圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱設置并將所述處理區域與所述抽真空區域流體連接的多個通道。