[發明專利]金屬氧化物修飾的納米TiO₂薄膜的制備方法無效

申請號：	201210547969.1	申請日：	2012-12-17
公開（公告）號：	CN103007916A	公開（公告）日：	2013-04-03
發明（設計）人：	宋仁國;李鑫偉;項博;王超	申請（專利權）人：	常州大學
主分類號：	B01J23/06	分類號：	B01J23/06;B01J23/22;B01J23/50;B01J23/10;B01J23/14
代理公司：	南京知識律師事務所 32207	代理人：	李媛媛
地址：	213164 ***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	金屬氧化物修飾納米 tio sub 薄膜制備方法
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【權利要求書】：

1.金屬氧化物修飾的納米TiO₂薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：（1）將純鈦片制備成25mm×15mm×2mm的長方形薄片，（2）對鈦片進行預處理，包括：砂紙打磨、除油、鹽酸液漂洗、超聲波去離子水清洗和真空干燥，（3）將預處理后的鈦片表面用加熱后粘稠的聚乙烯醇分別涂上2-20mmol需要摻雜的金屬氧化物，烘干后直接將鈦片安置在微弧氧化設備上進行微弧氧化，其中鈦片作陽極浸在處理液中，帶冷卻系統的不銹鋼容器作為陰極，實驗參數為：電壓420V，制備時間30min，磷酸鹽電解液體系中Na₃PO₄濃度為10g/L，NaF濃度為1g/L，電解溫度控制在35℃以下，（4）將制備好的納米TiO₂薄膜進行去離子水漂洗和干燥。

2.?根據權利要求1所述的金屬氧化物修飾的納米TiO₂薄膜的制備方法，其特征在于，所述金屬氧化物為：氧化鋅、五氧化二釩、氧化銀、氧化鈰、氧化鑭、氧化鏑或氧化鉛中的一種或幾種。

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