[發(fā)明專利]光耦合裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210547421.7
• 申請(qǐng)日: 2012-12-17
• 公開（公告）號(hào): CN103869412A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃新舜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B6/124
• 分類號(hào): G02B6/124
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光耦合裝置，其包括一個(gè)基底、一個(gè)形成于該基底上的平板光波導(dǎo)、一個(gè)形成于該平板光波導(dǎo)上的介質(zhì)光柵及一對(duì)設(shè)置于該平板光波導(dǎo)上且位于該介質(zhì)光柵兩側(cè)的電極；該平板光波導(dǎo)用于與一個(gè)激光光源對(duì)接以接收該激光光源發(fā)出的激光束；該介質(zhì)光柵沿平行于該激光束的入射方向設(shè)置，并與該平板光波導(dǎo)構(gòu)成一個(gè)衍射型光波導(dǎo)透鏡以會(huì)聚該激光束；該對(duì)電極用于加載調(diào)制電場以通過電光效應(yīng)改變?cè)撈桨骞獠▽?dǎo)的折射率從而改變?cè)撗苌湫凸獠▽?dǎo)透鏡的焦距。

2.如權(quán)利要求1所述的光耦合裝置，其特征在于，該基底的材料采用鈮酸鋰晶體。

3.如權(quán)利要求1所述的光耦合裝置，其特征在于，該基底基本呈矩形，并包括一個(gè)頂面及一個(gè)與該頂面連接的側(cè)面，該平板光波導(dǎo)通過向該頂面鍍上金屬鈦后高溫將金屬鈦擴(kuò)散入該基底而形成；該平板光波導(dǎo)為矩形，該頂面即為該平板光波導(dǎo)的頂面，該側(cè)面為該平板光波導(dǎo)的側(cè)面。

4.如權(quán)利要求3所述的光耦合裝置，其特征在于，該介質(zhì)光柵通過從該平板光波導(dǎo)的頂面蝕刻該平板光波導(dǎo)而形成。

5.如權(quán)利要求3所述的光耦合裝置，其特征在于，該介質(zhì)光柵是一個(gè)啁啾光柵，其包括多個(gè)矩形的、平行設(shè)置的介質(zhì)部分，該多個(gè)介質(zhì)部分垂直于該側(cè)面設(shè)置，且高度基本相同；該多個(gè)介質(zhì)部分的數(shù)目為奇數(shù)，并關(guān)于一個(gè)對(duì)稱軸對(duì)稱分布，且沿該對(duì)稱軸到遠(yuǎn)離該對(duì)稱軸的方向，該介質(zhì)部分的寬度越來越小，而相鄰兩個(gè)該介質(zhì)部分的間隙也越來越小。

6.如權(quán)利要求5所述的光耦合裝置，其特征在于，以該介質(zhì)光柵的寬度方向?yàn)???????????????????????????????????????????????軸，該對(duì)稱軸與軸的相交點(diǎn)為原點(diǎn)，沿該對(duì)稱軸到遠(yuǎn)離該對(duì)稱軸的方向?yàn)檩S正向，該介質(zhì)部分的第個(gè)邊界滿足如下條件：，其中，，為正整數(shù)，及為常數(shù)且與該衍射型光波導(dǎo)透鏡的焦距相關(guān)。

7.如權(quán)利要求1所述的光耦合裝置，其特征在于，該對(duì)電極的長度及高度分別大于或者等于該介質(zhì)光柵的長度及高度。