[發(fā)明專利]等相差分波束形成裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210546668.7 | 申請日: | 2012-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN103050764A | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳壁群;劉玉 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東博緯通信科技有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/00 | 分類號: | H01Q1/00;H01Q1/38;H01Q19/185 |
| 代理公司: | 深圳匯智容達專利商標事務(wù)所(普通合伙) 44238 | 代理人: | 劉新年 |
| 地址: | 510700 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 相差 波束 形成 裝置 | ||
1.一種等相差分波束形成裝置,其特征在于,包括第一金屬反射板、第二金屬反射板、絕緣介質(zhì)片、滑動裝置、介質(zhì)基板和蝕刻于介質(zhì)基板上的饋線網(wǎng)絡(luò);所述饋線網(wǎng)絡(luò)包括相互串聯(lián)的固定傳輸線和功率分配子單元,每段固定傳輸線與兩個絕緣介質(zhì)片構(gòu)成一個移相器子單元,所述兩個絕緣介質(zhì)片分別設(shè)置在介質(zhì)基板的上底面和下底面,并且正對所述固定傳輸線設(shè)置;所述介質(zhì)基板和絕緣介質(zhì)片夾在第一金屬反射板和第二金屬反射板之間;所述第一金屬反射板和介質(zhì)基板上設(shè)有限位滑槽,所述滑動裝置依次穿過第一金屬反射板和介質(zhì)基板上的限位滑槽,與介質(zhì)基板兩側(cè)面的絕緣介質(zhì)片連接,用于在限位滑槽的始末位置之間,帶動多個絕緣介質(zhì)片在各自對應(yīng)的固定傳輸線上同步移動,所述絕緣介質(zhì)片在移動過程中僅與饋線網(wǎng)絡(luò)中的固定傳輸線有交迭。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,所述滑動裝置包括拉桿、拉桿導(dǎo)軌和插銷,拉桿導(dǎo)軌固定于第一金屬反射板背向介質(zhì)基板的一側(cè),所述拉桿可滑動地安裝于拉桿導(dǎo)軌上,所述插銷一端固定連接于拉桿上,另一端依次穿過第一金屬反射板和介質(zhì)基板上的限位滑槽,且與介質(zhì)基板兩側(cè)面的絕緣介質(zhì)片固定連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,所述絕緣介質(zhì)片上開設(shè)有定位孔,所述插銷穿過定位孔,與絕緣介質(zhì)片固定連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,所述第二金屬反射板上也設(shè)有限位滑槽,所述插銷還穿過第二金屬反射板上的限位滑槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,每個絕緣介質(zhì)片至少具有一個阻抗變換部分,在每個移相器子單元中,兩個絕緣介質(zhì)片上的阻抗變換部分均與對應(yīng)的固定傳輸線有交迭。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,所述固定傳輸線為曲折傳輸線,所述曲折傳輸線包括多段直線傳輸線和連接傳輸線;所述多段直線傳輸線相互平行排列,沿絕緣介質(zhì)片的移動方向延伸;所述多段直線傳輸線通過連接傳輸線依次首尾相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,每個絕緣介質(zhì)片至少具有一個阻抗變換部分,在每個移相器子單元中,兩個絕緣介質(zhì)片上的阻抗變換部分與對應(yīng)的曲折傳輸線中的每一段直線傳輸線均有交迭。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,所述功率分配子單元與所述金屬反射板之間填充有低損耗微波介質(zhì)材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等相差分波束形成裝置,其特征在于,分布于介質(zhì)基板上底面和下底面的絕緣介質(zhì)片關(guān)于介質(zhì)基板對稱。
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