[發明專利]等相差分波束形成裝置

無效

• 申請號: 201210546668.7
• 申請日: 2012-12-17
• 公開（公告）號: CN103050764A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 吳壁群;劉玉
• 申請（專利權）人: 廣東博緯通信科技有限公司
• 主分類號: H01Q1/00
• 分類號: H01Q1/00;H01Q1/38;H01Q19/185
• 代理公司: 深圳匯智容達專利商標事務所(普通合伙) 44238
• 代理人: 劉新年

1.一種等相差分波束形成裝置，其特征在于，包括第一金屬反射板、第二金屬反射板、絕緣介質片、滑動裝置、介質基板和蝕刻于介質基板上的饋線網絡；所述饋線網絡包括相互串聯的固定傳輸線和功率分配子單元，每段固定傳輸線與兩個絕緣介質片構成一個移相器子單元，所述兩個絕緣介質片分別設置在介質基板的上底面和下底面，并且正對所述固定傳輸線設置；所述介質基板和絕緣介質片夾在第一金屬反射板和第二金屬反射板之間；所述第一金屬反射板和介質基板上設有限位滑槽，所述滑動裝置依次穿過第一金屬反射板和介質基板上的限位滑槽，與介質基板兩側面的絕緣介質片連接，用于在限位滑槽的始末位置之間，帶動多個絕緣介質片在各自對應的固定傳輸線上同步移動，所述絕緣介質片在移動過程中僅與饋線網絡中的固定傳輸線有交迭。

2.根據權利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述滑動裝置包括拉桿、拉桿導軌和插銷，拉桿導軌固定于第一金屬反射板背向介質基板的一側，所述拉桿可滑動地安裝于拉桿導軌上，所述插銷一端固定連接于拉桿上，另一端依次穿過第一金屬反射板和介質基板上的限位滑槽，且與介質基板兩側面的絕緣介質片固定連接。

3.根據權利要求2所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述絕緣介質片上開設有定位孔，所述插銷穿過定位孔，與絕緣介質片固定連接。

4.根據權利要求2所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述第二金屬反射板上也設有限位滑槽，所述插銷還穿過第二金屬反射板上的限位滑槽。

5.根據權利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，每個絕緣介質片至少具有一個阻抗變換部分，在每個移相器子單元中，兩個絕緣介質片上的阻抗變換部分均與對應的固定傳輸線有交迭。

6.根據權利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述固定傳輸線為曲折傳輸線，所述曲折傳輸線包括多段直線傳輸線和連接傳輸線；所述多段直線傳輸線相互平行排列，沿絕緣介質片的移動方向延伸；所述多段直線傳輸線通過連接傳輸線依次首尾相連。

7.根據權利要求6所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，每個絕緣介質片至少具有一個阻抗變換部分，在每個移相器子單元中，兩個絕緣介質片上的阻抗變換部分與對應的曲折傳輸線中的每一段直線傳輸線均有交迭。

8.根據權利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，所述功率分配子單元與所述金屬反射板之間填充有低損耗微波介質材料。

9.根據權利要求1所述的等相差分波束形成裝置，其特征在于，分布于介質基板上底面和下底面的絕緣介質片關于介質基板對稱。