[發(fā)明專利]一種化學機械拋光液

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201210546342.4
• 申請日: 2012-12-17
• 公開（公告）號: CN103865402A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發(fā)明（設計）人: 尹先升;王雨春
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C23F3/04
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種化學機械拋光液，其特征在于，包括化學添加劑、研磨粒子、氧化劑、絡合劑和腐蝕抑制劑。

2.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所選化學添加劑選自聚羧酸類化合物、有機膦酸類化合物或聚乙烯吡咯烷酮（PVP）類化合物中一種或多種。

3.如權利要求2所述的拋光液，其特征在于，所述聚羧酸類化合物為聚羧酸及其鹽類化合物。

4.如權利要求3所述的拋光液，其特征在于，所述聚羧酸類化合物選自聚環(huán)氧琥珀酸納（PESA），聚丙烯酸（PAA），馬來酸-丙烯酸共聚物（MA-AA），聚丙烯酸鈉（PAAS），水解聚馬來酸酐（HPMA）中的一種或多種。

5.如權利要求2所述的拋光液，其特征在于，所述有機膦酸類化合物為有機膦酸及其鹽類化合物。

6.如權利要求5所述的拋光液，其特征在于，所述有機膦酸類化合物選自氨基三甲叉膦酸（ATMP）、羥基乙叉二膦酸（HEDP）、乙二胺四甲叉膦酸（EDTMPA）、二乙烯三胺五甲叉膦酸（DTPMPA）、乙二胺四甲叉膦酸鈉（EDTMPS）2-羥基膦酰基乙酸（HPAA）中的一種或多種。

7.如權利要求2所述的拋光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮（PVP）類化合物為相對分子量為1000-10000000范圍內(nèi)的一種或多種聚合物。

8.如權利要求7所述的拋光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮（PVP）類化合物的K值為15、17、25、30和/或90。

9.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨粒子為氧化鈰研磨顆粒。

10.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述研磨粒子的平均粒徑為80-300納米。

11.如權利要求10所述的拋光液，其特征在于，所述研磨粒子的平均粒徑為120-280納米。

12.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述研磨粒子的濃度為0.25-2.5wt%。

13.如權利要求12所述的拋光液，其特征在于，所述研磨粒子的濃度為0.5-1.5wt%。

14.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的氧化劑選自過氧化氫、碘酸鉀、過硫酸銨、過硫酸鉀或硝酸銨中的一種或多種。

15.如權利要求14所述的拋光液，其特征在于，所述的氧化劑選自過硫酸銨或碘酸鉀。

16.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的氧化劑濃度為0.01-0.5wt%。

17.如權利要求16所述的拋光液，其特征在于，所述的氧化劑濃度為0.05-0.1wt%。

18.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑選自L-精氨酸、氨基乙酸、檸檬酸、乙二胺、醋酸中的一種或多種。

19.如權利要求18所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑選自醋酸、乙二胺和/或氨基乙酸。

20.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑的濃度為0.01-1wt%。

21.如權利要求20所述的拋光液，其特征在于，所述絡合劑的濃度為0.1-0.25wt%。

22.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述腐蝕抑制劑選自苯并三氮唑類化合物。

23.如權利要求22所述的拋光液，其特征在于，所述腐蝕抑制劑為苯并三氮唑和/或3-氨基-1、2、4-三氮唑。

24.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述腐蝕抑制劑的濃度為0.01-0.1wt%。

25.如權利要求24所述的拋光液，其特征在于，所述腐蝕抑制劑的濃度為0.05-0.1wt%。

26.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述化學添加劑的濃度為0.1-1.5wt%。

27.如權利要求1-26任一項所述的拋光液，其特征在于，所述拋光液的pH值范圍為6.0-11.0。