[發(fā)明專利]一種液晶透鏡無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210546046.4 | 申請日： | 2012-12-14 |
| 公開（公告）號： | CN102998873A | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉晟齊;蔡永生;董人郎 | 申請（專利權(quán)）人： | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/29 | 分類號： | G02F1/29;G02F1/1339;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國 |
| 地址： | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 液晶 透鏡 | ||
1.一種液晶透鏡，其特征在于，所述液晶透鏡包括：
一第一基板；
一第二基板，與所述第一基板相對設(shè)置，且所述第二基板與所述第一基板之間具有間距；
一液晶層，設(shè)置于所述第一基板與所述第二基板之間；
一驅(qū)動電極，設(shè)置于所述第一基板與所述液晶層之間；
多個接地電極，設(shè)置于所述第二基板與所述液晶層之間，相鄰的接地電極之間具有間距；以及
多個光阻間隔物（photo?spacer），每一光阻間隔物分別設(shè)置于相鄰接地電極之間的中心位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶透鏡，其特征在于，所述光阻間隔物以隨機分布方式設(shè)置于所述液晶層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶透鏡，其特征在于，所述光阻間隔物以陣列分布方式設(shè)置于所述液晶層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶透鏡，其特征在于，相鄰的兩個接地電極間的水平距離和豎直距離分別為X和Y，則相鄰光阻間隔物的間距為X和Y的最小公倍數(shù)。
5.一種液晶透鏡，其特征在于，所述液晶透鏡包括：
一第一基板；
一第二基板，與所述第一基板相對設(shè)置，且所述第二基板與所述第一基板之間具有間距；
一液晶層，設(shè)置于所述第一基板與所述第二基板之間；
一第一電極和一第二電極，交錯設(shè)置于所述第一基板與所述液晶層之間；
一第三電極和一第四電極，交錯設(shè)置于所述第二基板與所述液晶層之間，所述第一電極與所述第三電極具有一第一重疊區(qū)域，所述第二電極與所述第四電極具有一第二重疊區(qū)域；以及
多個光阻間隔物（photo?spacer），每一光阻間隔物分別設(shè)置于所述第一重疊區(qū)域和所述第二重疊區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液晶透鏡，其特征在于，所述第一電極和所述第三電極均為接地電極，所述第二電極和所述第四電極的電位相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶透鏡，其特征在于，所述光阻間隔物以隨機分布方式設(shè)置于所述液晶層。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶透鏡，其特征在于，所述光阻間隔物以陣列分布方式設(shè)置于所述液晶層。
9.一種液晶透鏡，其特征在于，所述液晶透鏡包括：
一第一基板；
一第二基板，與所述第一基板相對設(shè)置，且所述第二基板與所述第一基板之間具有間距；
一液晶層，設(shè)置于所述第一基板與所述第二基板之間；
一第一電極和一第二電極，交錯設(shè)置于所述第一基板與所述液晶層之間；
一第三電極和一第四電極，交錯設(shè)置于所述第二基板與所述液晶層之間，其中所述第二電極在垂直方向的投影完全覆蓋所述第四電極在垂直方向的投影，所述第三電極在垂直方向的投影完全覆蓋所述第一電極在垂直方向的投影；以及
多個光阻間隔物（photo?spacer），每一光阻間隔物分別設(shè)置于所述第三電極的中心位置以及所述第四電極的中心位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶透鏡，其特征在于，所述第一電極、所述第二電極、所述第三電極和所述第四電極分別具有不同的電位。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于友達光電股份有限公司，未經(jīng)友達光電股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210546046.4/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
