[發(fā)明專利]液晶顯示面板及顯示器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210545023.1 | 申請日: | 2012-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN103033976A | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 嚴(yán)巍 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/13357;G02F1/1343;G02F1/133 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示 面板 顯示器 | ||
1.一種液晶顯示面板,包括上基板、下基板及設(shè)置在所述上基板和所述下基板之間的液晶層,其特征在于,所述液晶顯示面板還包括:
一反射薄膜,設(shè)置于所述下基板的下方,且包括第一位置狀態(tài),在所述第一位置狀態(tài)與所述下基板間隔一距離設(shè)置,用于反射透過所述上基板、所述液晶層和所述下基板透射的外界光線的入射光,形成反射光,所述反射光與所述入射光形成相干光,用于圖像顯示。
2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述反射薄膜還包括第二位置狀態(tài),能夠在所述第一位置狀態(tài)與所述第二位置狀態(tài)之間移動;在所述第二位置狀態(tài),所述反射薄膜貼近所述下基板設(shè)置,通過背光源發(fā)出的光線透過所述下基板、所述液晶層和所述上基板,進行圖像顯示。
3.如權(quán)利要求1或2所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述液晶顯示面板還包括:
一附加基板,與所述下基板間隔所述距離設(shè)置,所述反射薄膜在所述第一位置狀態(tài),貼附設(shè)置于所述附加基板上。
4.如權(quán)利要求2所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述液晶顯示面板還包括:
一控制單元,用于控制所述反射薄膜在所述第一位置狀態(tài)與所述第二位置狀態(tài)之間動作。
5.如權(quán)利要求4所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述控制單元包括:
一電極薄膜,設(shè)置于所述下基板的下表面;
控制電路,與所述電極薄膜電連接,用于控制所述電極薄膜上的電壓在第一電壓與第二電壓之間變換;所述電極薄膜在所述第一電壓時,使所述反射薄膜處于所述第一位置狀態(tài);所述電極薄膜在所述第二電壓時,使所述反射薄膜處于所述第二位置狀態(tài)。
6.如權(quán)利要求5所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述第一電壓為零,所述第二電壓為正電壓值。
7.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述距離為3.15um、2.86um或2.3um。
8.一種顯示器,其特征在于,包括權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板。
9.一種顯示器,包括液晶顯示面板和背光源,所述液晶顯示面板包括上基板、下基板及設(shè)置在所述上基板和所述下基板之間的液晶層,其特征在于,所述液晶顯示面板還包括:
一反射薄膜,設(shè)置于所述下基板的下方,且包括第一位置狀態(tài)和第二位置狀態(tài);
其中,所述反射薄膜在所述第一位置狀態(tài),所述反射薄膜與所述下基板間隔一距離設(shè)置;所述背光源關(guān)閉,通過所述反射薄膜反射透過所述上基板、所述液晶層和所述下基板透射的外界光線的入射光,形成反射光,所述反射光與所述入射光形成相干光進行圖像顯示;
所述反射薄膜在所述第二位置狀態(tài),所述反射薄膜貼近所述下基板設(shè)置;所述背光源打開,通過所述背光源發(fā)出的光線透過所述下基板、所述液晶層和所述上基板,進行圖像顯示。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示器,其特征在于,所述液晶顯示面板還包括:
一附加基板,與所述下基板間隔所述距離設(shè)置,所述反射薄膜在所述第一位置狀態(tài),貼附設(shè)置于所述附加基板上。
11.如權(quán)利要求9所述的顯示器,其特征在于,所述液晶顯示面板還包括:
電極薄膜,設(shè)置于所述下基板的下表面;
控制電路,與所述電極薄膜電連接,用于控制所述電極薄膜上的電壓在第一電壓與第二電壓之間變換;所述電極薄膜在所述第一電壓時,使所述反射薄處于所述第一位置狀態(tài);所述電極薄膜在所述第二電壓時,使所述反射薄膜處于所述第二位置狀態(tài)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





