[發(fā)明專利]成膜裝置及成膜方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210544972.8
• 申請日: 2012-12-14
• 公開（公告）號: CN103160923A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山田拓未;佐藤裕輔
• 申請（專利權(quán)）人: 紐富來科技股份有限公司
• 主分類號: C30B25/02
• 分類號: C30B25/02;H01L21/205
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 夏斌;陳萍

1.一種成膜裝置，其特征在于，具備：

反應(yīng)室，具有供給反應(yīng)氣體的反應(yīng)氣體供給部，在基板上進行基于氣相生長反應(yīng)的成膜；

捕集部，捕捉從上述反應(yīng)室排出的廢氣中的上述氣相生長反應(yīng)的反應(yīng)生成物；

排氣機構(gòu)，將除了由上述捕集部捕捉的上述反應(yīng)生成物以外的上述廢氣向外部排出；以及

非活性氣體供給部，為了將所捕捉的上述反應(yīng)生成物壓送到上述捕集部的外部，而向上述捕集部內(nèi)供給非活性氣體。

2.如權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

具有廢棄構(gòu)件，該廢棄構(gòu)件用于對被從上述捕集部壓送的上述反應(yīng)生成物進行廢棄處理。

3.如權(quán)利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，

上述反應(yīng)室具有清洗氣體供給部，該清洗氣體供給部供給用于對上述反應(yīng)生成物進行清洗的清洗氣體，

上述排氣機構(gòu)，將從上述反應(yīng)室排出的含有上述清洗氣體的清洗廢氣，經(jīng)由繞過上述捕集部的旁通管而排出。

4.一種成膜方法，其特征在于，

在反應(yīng)室內(nèi)配置基板，并供給反應(yīng)氣體，而在上述基板上進行基于氣相生長反應(yīng)的成膜，并且，

將從上述反應(yīng)室排出的廢氣導(dǎo)入到捕集部，而捕捉上述廢氣中含有的反應(yīng)生成物，將除了所捕捉的上述反應(yīng)生成物以外的上述廢氣排出，

向上述捕集部內(nèi)供給非活性氣體，而將所捕捉的上述反應(yīng)生成物向上述捕集部的外部壓送。

5.如權(quán)利要求4所述的成膜方法，其特征在于，

向上述反應(yīng)室供給用于對上述反應(yīng)生成物進行清洗的清洗氣體，將從上述反應(yīng)室排出的含有上述清洗氣體的清洗廢氣，通過繞過上述捕集部的旁通管而從該反應(yīng)室排出。